[发明专利]电光装置及电子设备有效
| 申请号： | 201310541115.7 | 申请日： | 2013-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103809321B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 杉本阳平;伊藤淳;山崎亮介;春山明秀 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 万利军;陈海红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电光 装置 电子设备 | ||
1.一种电光装置，其特征在于，
具备：
第一基板；
透光性的第二基板；
电光层，其由所述第一基板和所述第二基板夹持；和
第一透光性膜、第二透光性膜和第三透光性膜，它们配置于所述第二基板与所述电光层之间且从所述第二基板侧依次形成，
所述第二透光性膜的折射率，比所述第二基板的折射率大，且比所述第一透光性膜的折射率小，也比所述第三透光性膜的折射率小。
2.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于，
还在所述第二基板与所述第一透光性膜之间具备第四透光性膜，
所述第四透光性膜的折射率，比所述第二基板的折射率大且比所述第一透光性膜的折射率小。
3.根据权利要求2所述的电光装置，其特征在于，
所述第一透光性膜的折射率和所述第三透光性膜的折射率大体相等，且所述第二透光性膜的折射率和所述第四透光性膜的折射率大体相等。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的电光装置，其特征在于，
还在所述第三透光性膜上具备第五透光性膜，
所述第五透光性膜的折射率，比所述第二基板的折射率大且比所述第三透光性膜的折射率小。
5.根据权利要求4所述的电光装置，其特征在于，
所述第一透光性膜的折射率和所述第三透光性膜的折射率大体相等，且所述第二透光性膜的折射率和所述第五透光性膜的折射率大体相等。
6.根据权利要求1、2、3以及5中任一项所述的电光装置，其特征在于，
所述第二透光性膜是含有硼和磷的氧化硅膜。
7.根据权利要求4所述的电光装置，其特征在于，
所述第二透光性膜是含有硼和磷的氧化硅膜。
8.根据权利要求1、2、3、5以及7中任一项所述的电光装置，其特征在于，
所述第三透光性膜是导电性的膜。
9.根据权利要求4所述的电光装置，其特征在于，
所述第三透光性膜是导电性的膜。
10.根据权利要求6所述的电光装置，其特征在于，
所述第三透光性膜是导电性的膜。
11.一种电子设备，其特征在于，
具备权利要求1至10中任一项所述的电光装置。
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