[发明专利]激光热成像设备和激光热成像方法

权利要求书

1.一种激光热成像设备，包括：

基板载台，配置成接收基板；

光束照射单元，位于所述基板载台上方；以及

光束观察单元，

其特征在于，所述光束照射单元被配置成将对准激光束照射到所述基板的对准标记上；以及

所述光束观察单元与所述光束照射单元相对，所述基板载台设置在所述光束观察单元与所述光束照射单元之间，所述光束观察单元被配置成观察所述对准激光束与由所述对准标记形成的所述对准标记的阴影。

2.如权利要求1所述的设备，其中，

所述基板载台包括与所述对准标记对应的基板载台孔；以及

所述光束观察单元被定位成与所述基板载台孔对应。

3.如权利要求2所述的设备，其中，所述光束观察单元包括：

反射单元，与所述基板载台孔对应并且以预定方向反射所述对准激光束；

观察相机，在所述预定方向上与所述反射单元相隔；以及

观察透镜，定位在所述反射单元与所述观察相机之间并被配置成放大或缩小所述对准激光束。

4.如权利要求3所述的设备，其中，所述光束观察单元还包括：

中性密度滤光片，设置在所述对准激光束的照射路径中。

5.如权利要求1所述的设备，还包括：

激光掩模，设置在所述光束照射单元与所述基板载台之间并包括对准图案部分，所述对准图案部分被配置成将从所述光束照射单元照射的初始激光束划分成所述对准激光束。

6.如权利要求5所述的设备，还包括：

掩模载台，位于所述光束照射单元与所述基板载台之间并被配置成接收所述激光掩模；以及

掩模对准相机，位于所述掩模载台上并被配置成确认所述激光掩模的对准。

7.如权利要求5所述的设备，其中，所述激光掩模还包括：

成像图案部分，与所述对准图案部分相邻并被配置成将所述初始激光束划分成被照射到所述基板的显示区域的成像激光束。

8.如权利要求7所述的设备，其中，

供体膜设置在所述基板上，所述成像激光束被配置成照射所述供体膜并且将有机发射层热成像到所述基板。

9.如权利要求8所述的设备，其中，

所述供体膜由所述基板载台支承。

10.如权利要求7所述的设备，其中，所述激光掩模包括：

掩模主体，所述掩模主体包括所述对准图案部分和所述成像图案部分；以及

盖，所述盖被定位在所述掩模主体与所述光束照射单元之间并且被配置成选择性地覆盖所述对准图案部分。

11.如权利要求10所述的设备，其中，

所述盖被配置成在所述掩模主体的所述对准图案部分的上部区域与所述掩模主体的外部区域之间进行滑动。

12.如权利要求1所述的设备，其中，

所述基板载台被配置成沿着第一方向、与所述第一方向交叉的第二方向以及与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向进行移动。

13.如权利要求12所述的设备，还包括：

主载台，所述主载台被配置成支承所述基板载台和所述光束观察单元，并且被配置成沿着所述第一方向和所述第二方向进行移动。

14.如权利要求12所述的设备，还包括：

基板对准相机，位于所述基板载台上并被配置成确认所述基板的对准。

15.一种激光热成像方法，所述方法包括：

对基板进行定位；

将对准激光束照射到所述基板的对准标记上；

对所述对准激光束以及由所述对准标记形成的所述对准标记的阴影进行观察；

对所述对准标记的所述阴影与所述对准激光束的对准进行比较；以及

对所述基板与所述对准激光束中的至少一个进行对准。

16.如权利要求15所述的方法，还包括：

使用已对准的基板或对准激光束执行激光诱导热成像操作，使得成像激光束被照射到供体膜上以将有机发射层热成像到所述基板上。