[发明专利]激光热成像设备和激光热成像方法

说明书

技术领域

本发明实施方式涉及激光热成像设备和激光热成像方法。

背景技术

最近，有机发光二极管(OLED)显示器作为显示图像的显示装置已引起了广泛关注。OLED显示器中所包含的有机发射层可以通过使用执行激光诱导热成像(LITI)的激光热成像设备来形成。

背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对所描述的技术背景的理解，因此其可包括对本国本领域的普通技术人员公知但并非属于现有技术的信息。

发明内容

本发明实施方式涉及激光热成像设备，包括：配置成接收基板的基板载台；位于基板载台上方的光束照射单元；配置成将对准激光束照射到基板的对准标记上的光束照射单元；以及与光束照射单元相对的光束观察单元，基板载台被设置在光束观察单元与光束照射单元之间，该光束观察单元被配置成观察对准激光束与通过对准标记形成的对准标记的阴影。

基板载台可以包括与对准标记对应的基板载台孔，并且光束观察单元被定位成与基板载台孔对应。

光束观察单元可以包括：与基板载台孔对应并且用于以预定方向反射对准激光束的反射单元；在预定方向上与反射单元相隔的观察相机；以及定位在反射单元与观察相机之间的观察透镜，该观察透镜被配置成放大或缩小对准激光束。

光束观察单元还可以包括：设置在对准激光束的照射路径中的中性密度滤光片。

该设备还可以包括：介入在光束照射单元与基板载台之间的激光掩模，该激光掩模包括配置成将从光束照射单元照射的初始激光束划分成对准激光束的对准图案部分。

该设备还可以包括：位于光束照射单元与基板载台之间的掩模载台，该掩模载台被配置成接收激光掩模；以及位于掩模载台上的掩模对准相机，该掩模对准相机被配置成确认激光掩模的对准。

激光掩模还可以包括：与对准图案部分相邻的成像图案部分，该成像图案部分被配置成将初始激光束划分成被照射到基板的显示区域的成像激光束。

供体膜可以被设置在基板上，成像激光束被配置成照射供体膜并且将有机发射层热成像到基板。

供体膜可以由基板载台支承。

激光掩模可以包括：掩模主体，该掩模主体包括对准图案部分和成像图案部分；以及盖，该盖被定位在掩模主体与光束照射单元之间并且被配置成选择性地覆盖对准图案部分。

盖可以被配置成在掩模主体的对准图案部分的上部区域与掩模主体的外部区域之间进行滑动。

基板载台可以被配置成沿着第一方向、与第一方向交叉的第二方向以及与第一方向和第二方向交叉的第三方向进行移动。

该设备还可以包括：主载台，该主载台被配置成支承基板载台和光束观察单元，并且被配置成沿着第一方向和第二方向进行移动。

该设备还可以包括：位于基板载台上的基板对准相机，该基板对准相机被配置成确认基板的对准。

本发明的实施方式还涉及激光热成像方法，该方法包括：对基板进行定位；将对准激光束照射到基板的对准标记上；对对准激光束与由对准标记形成的对准标记的阴影进行观察；对对准标记的阴影与对准激光束的对准进行比较；以及对基板与对准激光束中的至少一个进行对准。

该方法还包括：使用对准的基板或对准激光束执行激光诱导热成像操作，由此使得成像激光束被照射到供体膜上以将有机发射层热成像到基板上。

附图说明

通过参照附图详细地描述示例性实施方式，本发明的特征将对本领域的普通技术人员变得显而易见，在附图中：

图1是根据第一示例性实施方式的激光热成像设备的视图；

图2是图1所示的激光热成像设备的基板载台侧部的视图；

图3A至图4B是用于说明图1所示的激光掩模的视图；

图5是根据第二示例性实施方式的激光热成像方法的流程图；

图6A至图7B是用于说明根据第二示例性实施方式的激光热成像方法的视图。

具体实施方式

下文中，将参照附图更加全面地描述示例性实施方式；然而，可以以多种不同形式实施它们，并且不应当被解释为限制于本文中记载的实施方式。更确切地，提供这些实施方式以使得本公开将更加彻底和完整，并且将对本领域的技术人员全面传达示例性实施方式的范围。