[发明专利]一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备

权利要求书

1.一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室（1），在所述真空室（1）内设有基片安装座（2），在所述真空室（1）内部与基片安装座（2）对应的位置上设有石英玻璃（3），在所述真空室（1）上与石英玻璃（3）对应的位置上设有汞灯（4），在所述真空室（1）上连接有氩气进气管（5），在所述真空室（1）外设有汞源（6），所述的汞源（6）通过连接管（7）与真空室（1）相连接，在所述汞源（6）上设有SiH4进气管（8），在所述基片安装座（2）内设有基片加热器（9）。

2.根据权利要求1所述的一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于在所述的氩气进气管（5）上设有气阀（10），在所述的设有SiH4进气管（8）上设有气阀（10）。

3.根据权利要求1所述的一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于所述SiH4进气管（8）与氩气进气管（5）相互连通。

4.根据权利要求1所述的一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于在所述汞源（6）底部设有加热装置。

5.根据权利要求1所述的一种利用光化学气相沉积制备α_SiH膜的设备，其特征在于在所述真空室（1）上连接有废弃排气管（11）。