[发明专利]一种纳米压印设备

说明书

技术领域

本发明涉及微加工领域，具体涉及一种利用自动化技术实现对纳米加工过程精确控制的纳米压印设备。

背景技术

随着纳米压印技术的发展，纳米压印设备趋于多样化和先进化，但是市场上多数纳米压印设备结构简单、但压印出来的产品精确度较差，对纳米压印过程中压印温度、压印力及相关压印参数控制不精确。

发明内容

发明目的：针对现有技术中存在的不足，本发明的提供一种纳米压印设备，采用PLC作为控制器，对纳米压印的每个系统采取智能控制，确保纳米压印过程的精确、可靠，提高纳米压印的效率。

技术方案：为了实现上述发明目的，本发明采用的技术方案为：

一种纳米压印设备，包括控制系统以及分别与之相连的真空系统、高压系统、温度控制系统、紫外系统和人机界面。

作为优选，所述的控制系统包括Delta DVP40ES PLC和10寸液晶显示器。

作为优选，所述的控制系统通信方式为串口232。

作为优选，所述的真空系统主要由直联旋片式真空泵组成，真空系统的极限真空度为6*10^-1Pa。

作为优选，所述的紫外系统采用的紫外光源为手提式高压贡灯，光源功率为1000W，主波长为365nm。

作为优选，所述的温度控制系统采用PID控制，加热方式为24V、200W电热丝加热，冷却方式为水冷，温控范围为室温至300℃。

有益效果：本发明的提供的纳米压印设备，采用PLC作为控制器，对纳米压印的每个系统采取智能控制，对于纳米压印过程中的真空系统、高压系统、温度控制系统和紫外系统进行精确控制，确保压印的产品精确、可靠，提高压印效率和产品质量。

附图说明

图1是纳米压印设备的原理框图。

具体实施方式

下面结合附图进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等同形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

如图1所示的纳米压印设备，包括控制系统以及分别与之相连的真空系统、高压系统、温度控制系统、紫外系统和人机界面。真空系统主要由直联旋片式真空泵组成，真空系统的极限真空度为6*10^-1Pa；紫外系统采用的紫外光源为手提式高压贡灯，光源功率为1000W，主波长为365nm；温度控制系统采用PID控制，加热方式为24V、200W电热丝加热，冷却方式为水冷，温控范围为室温至300℃。人机界面设有“参数设置”按钮，根据提示设置相关参数；操作具体过程如下：

（1）真空系统开启真空泵；

（2）温度控制系统调节好温度；

（3）高压系统开启高压汞灯；

（4）紫外系统进行紫外压印；

（5）高压系统关闭高压汞灯；

（6）真空系统关闭真空泵；

（7）关闭总电源。