[发明专利]一种复合掩模板组件的制作方法

说明书

本发明公开了一种复合掩模板组件的制作方法，包括：S1、一次电铸：通过一次电铸形成掩模层，掩模层包括有第一开口以及掩模部，第一开口和掩模部构成掩模图案区；S2、二次电铸：通过二次电铸形成支撑层，支撑层包括有与掩模层的掩模部相对应的支撑条以及与第一开口及其相邻掩模部相对应的第二开口，支撑层与掩模层紧密结合，起到对掩模层支撑作用，且支撑层不会对第一开口形成遮挡。本发明提供的方法制作的复合掩模板，支撑条可以对下垂的掩模层提供一定的支撑力，如此可以更好的解决传统工艺中下垂问题，进而改善产品的精度和质量，使制造更大尺寸面板成为可能。

技术领域

本发明涉及OLED制造领域，尤其涉及一种复合掩模板组件的制作方法。

背景技术

由于有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。

OLED生产过程中最重要的一环节是将有机层按照驱动矩阵的要求敷涂到基层上，形成关键的发光显示单元。OLED是一种固体材料，其高精度涂覆技术的发展是制约OLED产品化的关键。目前完成这一工作，主要采用真空沉积或真空热蒸发（VTE）的方法，其是将位于真空腔体内的有机物分子轻微加热（蒸发），使得这些分子以薄膜的形式凝聚在温度较低的基层上。在这一过程中需要与OLED发光显示单元精度相适应的高精密掩模板组件作为媒介。

图1所示是一种用于OLED蒸镀用掩模板组件的结构示意图，其由具有掩模图案10的掩模主体11与固定掩模主体11用的外框12构成，其中掩模主体11、外框12均为金属材料。图2 所示为图1中A-A所示的截面放大示意图，20为掩模部，21为有机材料蒸镀时在基板上形成薄膜的通道，由于掩模主体11一般是金属薄片通过蚀刻等工艺制得，构成其掩模图案（10）的掩模部（20）、通道（21）的尺寸（如：两通道的中心间距尺寸d1）会受到金属薄片本身厚度h和工艺的限制，从而限制最终OLED产品的分辨率。另外，若制作大尺寸掩模板，其金属型的掩模主体11会具有较大的质量，从而会导致掩模主体11板面产生下垂（即板面下凹），这对精度要求较高的掩模蒸镀过程是不利的。鉴于此，业内亟需一种能够解决此问题的方案。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种复合掩模板组件的制作方法，克服上述现有技术中缺陷的至少一个。

本发明提供了一种复合掩模板组件的制作方法，包括：

S1、一次电铸：通过一次电铸形成掩模层，所述掩模层包括有第一开口以及掩模部，所述第一开口和所述掩模部构成掩模图案区；

S2、二次电铸：通过二次电铸形成支撑层，所述支撑层包括有与所述掩模层的所述掩模部相对应的支撑条以及与所述第一开口及其相邻掩模部相对应的第二开口，所述支撑层与所述掩模层紧密结合，起到对所述掩模层支撑作用，且所述支撑层不会对所述第一开口形成遮挡；

其特征在于，所述掩模层上任一所述第一开口位于与所述支撑层的所述第二开口相对应的区域内，相邻的所述支撑条的间距是所述掩模层相邻的两个所述第一开口中心间距的n倍，所述n大于等于1且为正整数。

另外，根据本发明公开的一种掩模板组件的制作方法还具有如下附加技术特征：

进一步地，所述步骤S1一次电铸包括：

S11、贴膜一步骤：在芯模的一面压贴或涂覆一层感光膜；

S12、曝光一步骤：在所述芯模贴感光膜的一面进行曝光，将对应所述掩模层所述第一开口区域的膜曝光，形成保护膜；

S13、显影一步骤：经显影一步骤将所述曝光一步骤中未曝光的感光膜除去，露出芯模的金属区域，所述保护膜继续保留；