[发明专利]一种提高纳米印章抗粘性能的方法无效
| 申请号： | 201310553840.6 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103586229A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 王晶 | 申请（专利权）人： | 无锡英普林纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 成立珍 |
| 地址： | 214192 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 纳米 印章 粘性 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中，；
（2）用异丙醇冲洗纳米印章5～10分钟；
（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5～10分钟；
（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上抗粘层；
（5）清洗纳米印章，然后用氮气吹干。
2.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（1）中采用的清洗溶液为混合比例为1：1：4的NH4OH:H2O2:H2O。
3.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：优选地，所述的抗粘层为道康宁DC系列。
4.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（4）旋涂时匀胶机转速设为2500～3000转，旋转时间为1～1.5分钟。
5.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（5）中清洗印章包括丙醇超声4～5分钟，去离子水超声2～3分钟。
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