[发明专利]一种提高纳米印章抗粘性能的方法

说明书

技术领域

本发明涉及微加工领域，具体涉及一种提高纳米印章抗粘性能的方法。

背景技术

纳米印章表面凸起或凹陷结构越多，意味着与聚合物接触的表面越多，越容易引起聚合物和印章间的粘连。这些表面对印章的寿命有着非常重要的影响，直接决定了压印技术能否在工业界大量应用。

发明内容

发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供的提高纳米印章抗粘性能的方法，工艺简单、效率高，适合推广应用。

技术方案：为解决上述技术问题，本发明的采用的技术方案为：一种提高纳米印章抗粘性能的方法，包括如下步骤：

（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中；

（2）用异丙醇冲洗纳米印章5～10分钟；

（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5～10分钟；

（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上抗粘层；

（5）清洗纳米印章，然后用氮气吹干。

优选地，所述步骤（1）中采用的清洗溶液为混合比例为1：1：4的NH₄OH:H₂O₂:H₂O。

优选地，所述的抗粘层为道康宁DC系列。

优选地，所述步骤（4）旋涂时匀胶机转速设为2500～3000转，旋转时间为1～1.5分钟。

优选地，所述步骤（5）中清洗印章包括丙醇超声4～5分钟，去离子水超声2～3分钟。

有益效果：本发明提供的提高纳米印章抗粘性能的方法操作步骤简单，能大大降低模板的自由能，缩短脱模时间，延长纳米印章的使用寿命。

具体实施方式

实施例1：

一种提高纳米印章抗粘性能的方法，包括如下步骤：

（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中，；

（2）用异丙醇冲洗纳米印章5分钟；

（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5分钟；

（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上道康宁的DC20抗粘层，旋涂时匀胶机转速设为2500转，旋转时间为1.5分钟；

（5）通过丙醇超声4分钟，去离子水超声2分钟清洗纳米印章，然后用氮气吹干。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。