[发明专利]一种替尼类药物新晶型

权利要求书

1.一种舒尼替尼晶型，所述晶型为晶型B或晶型C，

a)其中所述晶型B的X-射线粉末衍射图中在2θ为3.96±0.2、4.34±0.2、8.76±0.2、10.34±0.2、15.77±0.2、17.51±0.2、19.43±0.2、21.28±0.2、26.11±0.2度的位置有峰；或

b)其中所述晶型C的X-射线粉末衍射图中在2θ为4.55±0.2、7.60±0.2、9.04±0.2、16.60±0.2、16.88、18.31±0.2、25.95±0.2、27.01±0.2的位置有峰。

2.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型B的X-射线粉末衍射图中在2θ为3.96±0.2、4.34±0.2、8.76±0.2、10.34±0.2、15.77±0.2、17.19±0.2、17.51±0.2、17.91±0.2、19.43±0.2、20.36±0.2、21.28±0.2、26.11±0.2度的位置有峰，其中衍射角2θ为8.76±0.2度的峰的相对强度大于50％。

3.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型B的X-射线粉末衍射图中在2θ为3.96±0.2、4.34±0.2、8.76±0.2、9.25±0.2、9.56±0.2、10.34±0.2、15.77±0.2、17.19±0.2、17.51±0.2、17.91±0.2、19.43±0.2、20.36±0.2、21.28±0.2、25.00±0.2、25.53±0.2、26.11±0.2、26.83±0.2和28.04±0.2度的位置有峰，其中衍射角2θ为8.76±0.2度的峰的相对强度大于50％。

4.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型B的X-射线粉末衍射图中在2θ为3.96±0.2、4.34±0.2、8.76±0.2、9.25±0.2、9.56±0.2、10.34±0.2、10.73±0.2、15.77±0.2、17.19±0.2、17.51±0.2、17.91±0.2、19.43±0.2、20.36±0.2、21.28±0.2、24.55±0.2、25.00±0.2、25.53±0.2、26.11±0.2、26.83±0.2、28.04±0.2、35.62±0.2和39.62±0.2度的位置有峰，其中衍射角2θ为8.76±0.2度的峰的相对强度大于50％。

5.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型B的X-射线粉末衍射图如图2所示，其中衍射角2θ为8.76±0.2度的峰的相对强度大于50％。

6.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型C的X-射线粉末衍射图中在2θ为4.55±0.2、7.17±0.2、7.60±0.2、9.04±0.2、10.28±0.2、14.39±0.2、16.60±0.2、16.88±0.2、18.31±0.2、20.38±0.2、25.9±0.25和27.01±0.2度的位置有峰，其中衍射角2θ为9.04±0.2度的峰的相对强度大于50％。

7.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型C的X-射线粉末衍射图中在2θ为4.55±0.2、7.17±0.2、7.60±0.2、9.04±0.2、10.28±0.2、11.69±0.2、14.39±0.2、15.18±0.2、16.60±0.2、16.88±0.2、18.31±0.2、19.12±0.2、20.38±0.2、21.80±0.2、23.01±0.2、23.80±0.2、25.95±0.2和27.01±0.2度的位置有峰，其中衍射角2θ为9.04±0.2度的峰的相对强度大于50％。

8.根据权利要求1所述的舒尼替尼晶型，所述晶型C的X-射线粉末衍射图如图3所示，其中衍射角2θ为9.04±0.2度的峰的相对强度大于50％。

9.权利要求1-5任一所述的舒尼替尼晶型B的制备方法，包含将舒尼替尼溶于溶解溶剂，加入不良溶剂，析出晶体，并收集晶体；其中所述溶解溶剂选自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、四氢呋喃、乙腈或其组合，所述不良溶剂包括丙酮、水或其组合。

10.根据权利要求9所述的舒尼替尼晶型B的制备方法，包含将舒尼替尼溶于溶解溶剂，加入不良溶剂，析出晶体，并收集晶体；其中所述溶解溶剂为二甲基乙酰胺，所述不良溶剂包括丙酮、水或其组合。