[发明专利]检测调色剂图像的状态的检测装置及其去除异物的方法有效
申请号: | 201310608441.5 | 申请日: | 2013-11-26 |
公开(公告)号: | CN103838113B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 朴殷锡;吴宗哲 | 申请(专利权)人: | 惠普打印机韩国有限公司 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G21/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王艳娇;李云霞 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 调色 图像 状态 装置 及其 去除 异物 方法 | ||
本申请涉及并要求于2012年11月26日在韩国知识产权局提交的第10-2012-134872号韩国专利申请的优先权,所述申请的公开通过引用合并于此。
技术领域
本发明的实施例涉及一种用于检测调色剂图像的状态的检测装置、采用所述检测装置的图像形成设备及从所述检测装置去除异物的方法,更具体地讲,涉及一种能够通过防止检测装置的污染来减小检测误差的检测装置、采用所述检测装置的图像形成设备及从所述检测装置去除异物的方法。
背景技术
图像形成设备通过曝光操作在感光体上形成静电潜像,通过供给调色剂在感光体上形成调色剂图像,将在感光体上形成的调色剂图像传送到印刷介质,并通过使用热和压力将传送的调色剂图像定影到印刷介质,从而执行印刷。
然而,在感光体上形成的调色剂图像的情况下,由于在执行传送操作时环境的影响(诸如温度和湿度),因此调色剂图像的状态(诸如调色剂图像的浓度和排列状态)可能偏离预定标准。为了解决这种问题,可检测调色剂图像的状态,可根据通过检测获得的值来调整浓度,或者可调整排列状态。
然而,由于检测调色剂图像的状态的检测装置可被布置为与具有形成的调色剂图像的图像承载构件(诸如感光体)相邻来检测调色剂图像,因此检测装置可能在形成调色剂图像时被异物(诸如散落的调色剂)污染。检测装置的这种污染产生了检测误差,这使得根据检测误差的调整操作变得不明确。
发明内容
将在以下描述中部分阐述其他方面和/或优点,并且其他方面和/或优点从描述中部分将是显然的,或者可通过本发明的实施而得知。
本发明的示例性实施例提供一种图像形成设备的检测装置,所述检测装置能够减小因附着于检测装置的异物所产生的检测误差。
本发明的示例性实施例提供一种包括检测装置的图像形成设备和从所述检测装置去除异物的方法。
根据本发明的一方面,提供一种检测装置。所述检测装置包括:检测器,具有光通过的光窗,并经由光窗检测在图像承载构件上形成的调色剂图像的状态;清洁器,去除附着于光窗的表面的污染物质。所述清洁器包括:吸附单元,由传导材料形成,并在与光窗的表面接触的同时往复运动;电压施加单元,向吸附单元施加用于吸附污染物质的第一电压。
吸附单元能够被移动到与光窗接触的第一位置以及释放与光窗的接触的第二位置。
当吸附单元位于第一位置时,电压施加单元可向吸附单元施加用于吸附污染物质的第一电压。
第一电压可以是具有与污染物质相反的极性的电压。
第一电压的极性可周期性地转换。
清洁器可包括收集污染物质的污染物质收集单元。
污染物质收集单元可包括与吸附单元的移动路径交叉并与吸附单元接触所凸起的接触凸起。
当吸附单元位于第二位置时,电压施加单元可向吸附单元施加用于从吸附单元分离污染物质的第二电压。
第二电压可以是具有与污染物质相同的极性的电压和接地电压之一。
当吸附单元位于第二位置时,电压施加单元可向污染物质收集单元施加用于将污染物质收集到污染物质收集单元中的第三电压。
第三电压可以是具有与污染物质相反的极性的电压。
电压施加单元可向吸附单元施加用于防止污染物质附着于光窗的第四电压。
第四电压可以是具有与污染物质相同的极性的电压和接地电压之一。
所述检测装置可包括:包含所述检测器的外壳,所述外壳在光窗与图像承载构件之间具有开口以允许光通过;遮板,打开和关闭所述开口。
吸附单元可被安装在遮板的面向检测器的表面上,并且吸附单元可通过遮板的移动来去除附着于光窗的污染物质。
根据本总体发明构思的一方面,提供一种包括所述检测装置的图像形成设备。
所述设备可包括:包含所述检测器的外壳,所述外壳在光窗与图像承载构件之间具有开口以允许光通过;遮板,打开和关闭所述开口。
吸附单元可被安装在遮板的面向检测器的表面上,并且吸附单元可通过遮板的移动来去除附着于光窗的污染物质。
根据本发明的一方面,提供一种由检测在图像承载构件上形成的调色剂图像的状态的检测装置执行的去除污染物质的方法。所述方法包括:向在与光窗接触的同时往复运动的吸附单元施加用于吸附污染物质的第一电压,以吸附附着于检测器的光窗的污染物质;通过使用在吸附单元与污染物质之间产生的电学基本力而允许污染物质被吸附到吸附单元上。
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