[发明专利]一种利那洛肽的制备方法有效
申请号: | 201310617050.X | 申请日: | 2013-11-27 |
公开(公告)号: | CN103626849B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 戴政清;刘剑;马亚平;袁建成 | 申请(专利权)人: | 深圳翰宇药业股份有限公司 |
主分类号: | C07K7/08 | 分类号: | C07K7/08;C07K1/20;C07K1/06;C07K1/04 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司11111 | 代理人: | 杨颖,张金芝 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 方法 | ||
1.一种利那洛肽的制备方法,包括如下步骤:
1)Fmoc-Tyr(tBu)-树脂的制备:Fmoc-Tyr(tBu)-OH和载体树脂反应,获得Fmoc-Tyr(tBu)-树脂;
2)利那洛肽肽树脂的制备:Fmoc-Tyr(tBu)-树脂采用逐一偶联的方式偶联Fmoc保护基团的其他氨基酸,获得利那洛肽肽树脂,其中1-6位的Cys侧链采用Hqm保护,2-10位的Cys侧链采用Trt保护,5-13位的Cys侧链采用Acm保护;
3)利那洛肽线性肽粗肽的制备:利那洛肽肽树脂经裂解反应,获得带有Acm保护基团及Hqm保护基团的线性肽粗肽;
4)利那洛肽2-10位第一对二硫键的形成:氧气氧化得到2-10位成环的第一对二硫键;
5)利那洛肽Hqm保护基团的脱除及1-6位第二对二硫键的形成:加入水合肼,脱除Hqm保护基团的同时形成第二对二硫键;
6)利那洛肽5-13位第三对二硫键的形成:加入碘和醋酸,形成第三对二硫键;
7)纯化和冻干后获得利那洛肽精肽。
2.根据权利要求1所述的方法,其中步骤1)中的载体树脂为Wang Resin,优选Wang Resin的替代度为0.2~1.2mmol/g,更优选为0.3~1.0mmol/g,最优选为0.6~0.8mmol/g。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所用的具有Fmoc保护基团的氨基酸分别为Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Cys(Acm)-OH、Fmoc-Cys(Trt)-OH、Fmoc-Cys(Hqm)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Pro-OH、Fmoc-Asn(Trt)-OH和Fmoc-Glu(OtBu)-OH。
4.根据前述权利要求任一项所述的方法,其中步骤1)中的偶联体系为HOBt/DIC/DMAP,HOBt/DCC/DMAP,HOAt/DIC/DMAP,HBTU/HOBt/DIPEA,TBTU/HOBt/DIPEA,PyBOP/HOBt/DIPEA,优选为HOBt/DIC/DMAP或HBTU/HOBt/DIPEA。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤2)中逐一偶联的方式采用的偶联试剂为DIC+A或B+A+C,其中A为HOBt或HOAt;B为HBTU、HATU、TBTU或PyBOP,C为DIPEA或TMP,优选为HOBt+DIC或HOBt+HBTU+DIPEA。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤3)中的裂解试剂为三氟乙酸TFA、三异丙基硅烷TIS、1,2-乙二硫醇EDT、苯酚PhOH和水组成的混合试剂,混合试剂中各组分的体积比优选为TFA:TIS:EDT:PhOH:H2O=85-95:2-5:0-3:0-2:1-5,更加优选为TFA:TIS:EDT:PhOH:H2O=90:3:2:1:4或TFA:EDT:H2O=90:5:5,裂解时间优选为1.5-3.5小时。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤4)中2-10位形成第一对二硫键采用的是带Acm和Hqm保护基团肽的水溶液,溶液的浓度为0.1-2mg肽/ml,优选浓度为0.1-1mg肽/ml,用氨水调节pH为7.0,往其中通入氧气进行氧化,氧化时间为4小时。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤5)中选择性脱除Hqm保护基团同时形成1-6位第二对二硫键采用的是往上述水溶液中加入5%的水合肼,用醋酸和氨水调节pH=8.5,空气下氧化反应,反应时间为5-44小时,优选为10-24小时。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤6)中5-13位形成第三对二硫键采用的是往上述水溶液加入相当于肽的5-40倍当量的碘,优选10-30倍当量,然后加入水溶液体积20%的醋酸,氧化时间为0.2-1小时,优选为0.2-0.5小时。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中步骤7)所述的纯化为反相高效液相色谱纯化。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳翰宇药业股份有限公司,未经深圳翰宇药业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310617050.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种建筑粉尘磁性分离机
- 下一篇:一种液氮深冷处理泡沫保温实验装置