[发明专利]薄膜太阳能电池CIGS吸收层的硒化方法无效
申请号: | 201310620779.2 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN103606598A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 伍祥武;陈进中;吴伯增;林东东;甘振英 | 申请(专利权)人: | 柳州百韧特先进材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 | 代理人: | 姚迎新 |
地址: | 545006 广西壮族自治区*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 太阳能电池 cigs 吸收 方法 | ||
技术领域
本发明涉及CIGS太阳能电池的吸收层,具体说是CIGS吸收层的硒化方法。
背景技术
CIGS 薄膜太阳电池因其具有高转换效率、无光致衰退、抗辐射性能好、低成本、适合卷对卷工艺大规模生产等优点,被认为是最具有发展潜力的薄膜太阳电池。该电池典型结构由衬底、Mo 层金属背电极、CIGS 层吸收层、CdS 缓冲层、窗口层高阻i:ZnO、低阻ZnO:Al、MgF2 减反射膜以及Ni-Al 栅电极构成。其中CIGS 吸收层的制备是CIGS 太阳电池的核心技术。而多元共蒸发法是目前制备CIGS 吸收层工艺中被使用最广泛和最成功的方法。多元共蒸发法制备CIGS 层,由铜、铟、镓、硒四种元素以Se 蒸汽形式在具有一定温度的衬底上反应化合形成Cu(InxGa1-x)Se2 的多元合金相。在制备过程中,硒加热蒸发方法产生硒蒸气以供应反应需要,这种方式的优点是简单、易行;但随着硒料的消耗会造成硒源蒸汽发生变化,进而影响到硒蒸发量的稳定性,导致了反应活性及原料使用率的降低、薄膜成份均匀性差、局部偏离化学计量比等现象。其在喷射硒蒸气时一般将衬底静置,这种方法使得喷射的硒不够均匀,影响硒化效果,从而降低薄膜的质量。
发明内容
针对上述技术问题,本发明提供一种提高硒蒸气喷涂均匀性、提高硒蒸气活性的薄膜太阳能电池CIGS吸收层的硒化方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:薄膜太阳能电池CIGS吸收层的硒化方法,其包括以下步骤:
(1)制备硒蒸气;
(2)通过输送带将吸收层衬底输送至预热区预热;
(3)经预热的衬底输送至具有惰性气体保护的硒化区,同时将硒蒸气导入硒化区,向移动的衬底上喷射硒蒸气;
(4)喷涂有硒的衬底在硒化区反应;
(5)反应完成后,由输送带将衬底输送至冷却区进行冷却,然后将其输出。
进一步地,制备硒蒸气时,先将硒源加热成硒蒸气,然后将硒蒸气进行裂解,再将裂解的硒蒸气导入硒化区。
进一步地,预热区温度维持在630℃--680℃,并使衬底在该区保温15s—20s。
进一步地,硒化区依次分为喷涂段、反应段和进气段,衬底在喷涂段移动时,向其上喷射硒蒸气;喷射完成后,衬底输送至反应段进行反应,反应完成后再输送至冷却段。
进一步地,在衬底进入喷涂区之前,先向进气段通入惰性气体,惰性气体依次经进气段、反应段、喷涂段后排出。
进一步地,硒化区的温度维持在830℃--880℃,衬底在反应段静置2min—4min。
进一步地,所述冷却区的降温速率为25℃/s--35℃/s。
本发明与现有技术相比具有如下优点:
1、本发明采用向移动的衬底喷射硒蒸气的方式,不仅喷涂均匀,提高成膜均匀性。
2、硒蒸气通过裂解后,再进行喷涂,提高了硒蒸气的活性,进而提高了成膜质量。
3、采用三个分区处理衬底,并将硒化区分成三段,提高了硒化反应的效率和效果。
具体实施方式
本发明的硒化方法包括以下步骤:
(1)制备硒蒸气;在制备硒蒸气时,先将硒源加热成硒蒸气,然后将硒蒸气进行裂解,再将裂解的硒蒸气导入硒化区;在实施过程中,先固态硒加热至200℃--300℃,固态硒生成低活性硒蒸气,然后将低活性的硒蒸气导入等离子带电体形成的400℃--500℃辉光放电区,从而使其裂解成高活性的硒蒸气,再将高活性的硒蒸气导入硒化区对衬底进行喷射。由于采用裂解后的硒蒸气喷涂衬底,使得硒化反应更加充分,提高了成膜质量。
(2)通过输送带将吸收层衬底输送至预热区预热;在预热区可采用红外灯、卤素灯或感应线圈对衬底加热,预热区温度维持在630℃--680℃之间,为后续的硒化提供了有利的温度条件。
(3)经预热的衬底输送至具有惰性气体保护的硒化区,同时将硒蒸气导入硒化区,向移动的衬底上喷射硒蒸气;在实施过程中应保证衬底匀速运动,并控制喷射装置的流量恒定,由于采用向匀速运动的衬底上喷射定量的硒蒸气的方式,因此,喷射非常均匀有利于提高吸收层硒化质量;为了保证硒化质量,硒化区依次分为喷涂段、反应段和进气段,在喷涂段内安装有硒蒸气喷射装置,衬底在喷涂段移动时,向其上喷射硒蒸气,硒化区的温度应维持在830℃--880℃,可进一步提高反应质量;喷射完成后,衬底输送至反应段进行反应,反应完成后再输送至冷却段。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的