[发明专利]一种基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法无效

专利信息
申请号: 201310641796.4 申请日: 2013-12-03
公开(公告)号: CN103627806A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 李立家;张志凌;何世斌;余旭;王翔伍 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 磁场 可控 微流控 芯片 开发 ssr 标记 方法
【权利要求书】:

1.    一种基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于包括如下步骤:提取基因组DNA,将基因组DNA酶切成200-800 bp的片段;往酶切片段两端加接头进行PCR扩增,将PCR扩增产物和微卫星探针杂交;制备可以与微卫星探针结合的磁珠;制备磁场可控的微流控芯片;将磁珠、杂交混合物、洗脱液分别注入微流控芯片中,将含有SSR片段的DNA分离出来。

2.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的磁场可控的微流控芯片,包括三层:第一层是气阀控制层,用来控制溶液的流入和流出;第二层是流体层,控制流体流动;第三层是在ITO玻璃上PDMS封装的镍微结构,用来调控微通道内微区磁场分布。

3.根据权利要求2所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法其特征在于:所述的磁场可控的微流控芯片的制作方法包含如下步骤:

(1)制作气阀控制层:利用光刻技术,制作气阀控制层光刻胶模型,接着倒上预聚的PDMS,排除气泡,固化后,切下PDMS,打孔;

(2)制作流体层:制作流体层通道光刻胶模型的方法与制作气阀层方法一致,然后甩上一层PDMS,固化;

(3)将流体层和气阀控制层对准键合,键合牢固后,揭下来双层芯片,打孔;

(4)制作PDMS封装的镍微结构:在ITO导电玻璃上进行光刻和电镀,制作出光刻胶模型,在ITO导电玻璃上制作出镍微结构;然后用一层PDMS将镍微结构封装在里面;

(5)将流体层通道和含有PDMS封装的镍微结构对准,键合,形成永久键合的微流控芯片;

(6)组装成完整的微流控芯片,包括将半导体加热片放在在ITO玻璃下面,两个永磁铁放置在半导体加热片下方,位于流体通道两侧,温控探头放置在ITO玻璃和半导体加热片之间。

4.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的基因组DNA为真核生物的基因组DNA。

5.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的酶切为使用MseI进行酶切。

6.根据权利要求5所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的接头为MseI A:5’-TACTCAGGACTCAT-3’和MseI B:5’-GACGATGAGTCCTGAG-3’; 通过T4 DNA连接酶将接头加到酶切片段两端;对应的PCR扩增的引物为MseI-N:5’-GATGAGTCCTGAGTAAN-3’。

7.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的微卫星探针为5’端有biotin-T10修饰的SSR;对应的可以与微卫星探针结合的磁珠为链霉亲和素修饰的磁珠。

8.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的杂交的条件为:95 ℃下变性5 min,然后在65 ℃下杂交1 h。

9.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的洗脱液包括TEN1000、0.2×SSC+0.1% SDS和TE。

10.根据权利要求1所述的基于磁场可控微流控芯片开发SSR标记的方法,其特征在于:所述的加热为加热至95 ℃。

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