[发明专利]双重曝光的图案拆分方法以及系统

权利要求书

1.一种双重曝光的图案拆分方法，其特征在于，包括：

提供目标图案，所述目标图案包括若干相互独立的接触孔图案；

在目标图案的平面内定义第一方向以及第二方向，并使所述第一方向以及第二方向相互垂直；

获取所述接触孔图案以及至少一个相邻接触孔图案的尺寸数据；

获取接触孔图案的几何中心到相邻接触孔图案的几何中心在第一方向的投影距离；

获取接触孔图案的几何中心到相邻接触孔图案的几何中心在第二方向的投影距离；

通过所述接触孔图案的尺寸数据、相邻接触孔图案的尺寸数据、所述第一方向的投影距离以及第二方向的投影距离，计算得到所述接触孔图案到相邻接触孔图案的边界距离，所述边界距离为在接触孔图案与相邻接触孔图案沿几何中心连线方向上的边界之间的距离；

将所述边界距离与阈值进行相对大小的比对，以判断是否将所述接触孔图案拆分至不同的分掩模。

2.根据权利要求1所述的图案拆分方法，其特征在于，所述接触孔图案为矩形接触孔图案。

3.根据权利要求2所述的图案拆分方法，其特征在于，使所述第一方向以及第二方向分别平行矩形接触孔图案的边长。

4.根据权利要求2所述的图案拆分方法，其特征在于，

获取接触孔图案的尺寸数据的步骤包括：获取所述接触孔图案的至少一个边长的数据；

获取相邻接触孔图案的尺寸数据的步骤包括：获取相邻接触孔图案的至少一个边长的数据。

5.根据权利要求3所述的图案拆分方法，其特征在于，计算得到接触孔图案到相邻接触孔图案的边界距离的步骤包括，通过以下公式进行计算得到所述边界距离：

R=[(x)2+(y)2]1/2-2(a+b)*[|x+y|+|x-y|]-1*[(x)2+(y)2]1/2；

其中，R表示所述边界距离，x表示所述接触孔图案的几何中心到相邻接触孔图案的几何中心在第一方向的投影距离，y表示接触孔图案的几何中心到相邻接触孔图案的几何中心在第二方向的投影距离，a表示接触孔图案的边长，b表示相邻接触孔图案的边长。

6.根据权利要求5所述的图案拆分方法，其特征在于，当x≥y时，所述公式变为：

R=[(x)2+(y)2]1/2-x-1(a+b)*[(x)2+(y)2]1/2。

7.根据权利要求5所述的图案拆分方法，其特征在于，当x<y时，所述公式变为：

R=[(x)2+(y)2]1/2-y-1(a+b)*[(x)2+(y)2]1/2。