[发明专利]发光装置有效

专利信息
申请号: 201310659242.7 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN104701433B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 简振伟;余子强;林筱雨;许琪扬 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 图案化介电层 第一表面 发光叠层 发光装置 反射电极 阻障层 覆盖 环绕
【权利要求书】:

1.一种发光装置,包含:

发光叠层,包含第一表面、相对该第一表面的第二表面及连接该第一表面及该第二表面的侧面;

图案化介电层,形成于该发光叠层的该第一表面上,包含第一部分及第二部分环绕该第一部分,其中该第一部分具有一第一厚度,该第二部分具有一第二厚度,相同于该第一厚度;

第一反射电极,覆盖该图案化介电层的该第一部分,其中该第一反射电极与该图案化介电层的该第二部分以一间隔隔开并露出该第一表面;

第二电极结构,形成于该第二表面上;

阻障层,覆盖该第一反射电极及该图案化介电层的该第二部分,及位于该间隔中以隔开该第一反射电极及该图案化介电层的该第二部分;以及

保护层,包覆该发光叠层的该侧面及形成于该第二电极结构之外的所有该第二表面上。

2.如权利要求1所述的发光装置,其中该保护层包含第一保护层,包覆该发光叠层的该侧面及部分该第二表面,其中该图案化介电层的该第二部分突出于该发光叠层的该侧面与该第一保护层连接。

3.如权利要求2所述的发光装置,其中该图案化介电层的该第二部分介于该阻障层及于该第一保护层之间。

4.如权利要求2所述的发光装置,其中该第二电极结构具有第一图案,对应该图案化介电层的一图案,且该第一保护层接着于该第二电极结构。

5.如权利要求4所述的发光装置,其中该第二电极结构包含至少一电极垫及连接于该电极垫的一延伸枝状电极,该图案化介电层的该第二部分由该第二表面的上视观之是重叠于该电极垫及该延伸枝状电极。

6.如权利要求5所述的发光装置,其中与该延伸枝状电极重叠的该第二部分的宽度大于该延伸枝状电极的宽度。

7.如权利要求6所述的发光装置,其中与电极垫重叠的该第二部分的图形对应该电极垫的图形。

8.如权利要求2所述的发光装置,其中该保护层还包含第二保护层,覆盖该第一保护层及形成于该第二电极结构之外的所有该第二表面上。

9.如权利要求1所述的发光装置,其中该图案化介电层包含一绝缘氧化物或氮化物。

10.如权利要求1所述的发光装置,其中该第一反射电极未覆盖该第二部分,使部分该阻障层接触于该发光叠层的该第一表面。

11.如权利要求1所述的发光装置,其中该第一反射电极的材料包含银(Ag)或铝(Al)。

12.如权利要求1所述的发光装置,其中部分该阻障层形成于该间隔中。

13.如权利要求1所述的发光装置,还包含永久基板及连接层,其中该连接层形成于该阻障层及该永久基板之间。

14.如权利要求13所述的发光装置,其中该阻障层包含一断面宽度宽于该发光叠层。

15.如权利要求2所述的发光装置,还包含第二保护层,覆盖该第一保护层,其中该第一保护层包含氮化硅,该第二保护层包含硅氧化合物。

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