[发明专利]平板电脑壳体的加工方法在审
申请号: | 201310662311.X | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN104699183A | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 张磊 | 申请(专利权)人: | 大连奥林匹克电子城咨信商行 |
主分类号: | G06F1/16 | 分类号: | G06F1/16 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 贾汉生 |
地址: | 116000 辽宁省大*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 电脑 壳体 加工 方法 | ||
1.一种平板电脑壳体的加工方法,包括下述工艺步骤:
I.按所需尺寸将聚对苯二甲酸丁二醇酯置于模具中,50~70℃下成型;
II.将成型后的聚对苯二甲酸丁二醇酯坯体进行打磨及清洗,使其表面粗糙度小于0.05微米,得基体;
III.利用真空蒸镀法于基体表面蒸镀表面耐磨层。
2.根据权利要求1所述方法,其特征在于:所述真空蒸镀按下述方法进行:将基体置于真空镀膜机的真空室中;将ZrO2、SiO2、SiC、Ag2O、粉末混匀后置于真空室内的坩埚中;对真空室进行抽真空,直至压力为10-4~10-3Pa,后通入氩气或氮气,再抽真空至10-4~10-3Pa后开始蒸镀,蒸镀时间5~30min。
3.根据权利要求1所述方法,其特征在于:所述步骤I中成型为在0.5~5Mpa下成型。
4.根据权利要求2所述方法,其特征在于:所述ZrO2、SiO2、SiC、Ag2O、粉末按摩尔比10~30:20~40:5~10:20~50配置。
5.根据权利要求4所述方法,其特征在于:所述ZrO2、SiO2、SiC、Ag2O、粉末按摩尔比20~30:25~40:5~10:35~50配置。
6.根据权利要求1或4所述方法,其特征在于:所述真空蒸镀按下述方法进行:将基体置于真空镀膜机的真空室中;将ZrO2、SiO2、SiC、Ag2O、粉末混匀后置于真空室内的坩埚中;对真空室进行抽真空,直至压力为10-4~10-3Pa,后通入氩气或氮气,再抽真空至10-4~10-3Pa后开始蒸镀,蒸镀时间10~30min。
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