[发明专利]基板支撑装置及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板支撑装置，其特征在于，包括：

基板支撑体，安装基板；及

保护环，设置在所述基板支撑体上，形成为了在高于所述基板支撑体的上面的位置向所述基板喷射气体的流通渠道。

2.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述保护环，包括：

环形态的第1机体；

第2机体，从所述第1机体向内侧方向延长形成；

第1流通渠道，一端与所述第2机体的下面连接，由此向上部方向延长形成；及

第2流通渠道，与所述第1流通渠道的其他端连接，向内侧方向延长形成。

3.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述保护环，包括：

下部环，具有环形态的机体，且与所述机体的下面连接，由此向上部方向延长形成的第1流通渠道，及与所述第1流通渠道的其他端连接，向内侧方向延长形成的第2流通渠道；及

上部环，设置在所述下部环上，在与所述下部环的内侧面之间，形成与所述第2流通渠道连接的第3流通渠道，

所述流通渠道，包括所述第1流通渠道、所述第2流通渠道、所述第3流通渠道。

4.根据权利要求2或3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述第1及第2流通渠道，根据所述下部环的圆周方向形成多个。

5.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述第1流通渠道，垂直贯通所述下部环的机体形成，所述第2流通渠道，在所述机体的上面以凹陷的槽形成。

6.根据权利要求2或3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述第2机体，在内侧面的至少一部分形成，具有向下倾斜的倾斜面。

7.根据权利要求6所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述倾斜面，具有45°至80°的倾斜。

8.根据权利要求2或3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述第1机体，具有在其上面凹陷形成的至少一个以上的结合槽。

9.根据权利要求2或3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述保护环与所述基板支撑体之间，形成通过气体的主渠道，并且所述主渠道与所述流通渠道连接。

10.根据权利要求9所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述主渠道，在所述第1流通渠道及所述保护环的下面边缘位置领域，与所述基板支撑体的侧面之间形成的第4流通渠道连接。

11.根据权利要求9所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述基板支撑体，具有在内部通过气体的气体通道，

所述气体通道与所述主渠道连接。

12.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述下部环，具有在上面凹陷形成的结合槽，

所述上部环，具有在下面对应所述结合槽的结合凸起。

13.根据权利要求12所述的基板支撑装置，其特征在于，

具有多个所述结合槽，并且其中一部分结合所述结合凸起时，使其具有与所述结合凸起隔离的间隔，所述结合槽的直径形成为大于所述结合凸起的直径。

14.根据权利要求12或13所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述结合槽，形成将所述第1机体向所述第1机体的外侧方向垂直贯通的贯通孔。

15.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

在所述上部环内侧端部具有向下方弯曲的弯曲部，

在所述下部环内侧面至少一部分，具有向下倾斜的倾斜面，并且在所述弯曲部与所述倾斜面之间，形成所述第3流通渠道。

16.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

所述下部环，在上面具有阶梯部，

所述上部环，在下面具有对应所述阶梯部的凸出部。

17.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

腔室，形成处理空间；

气体喷射器，在所述腔室的内部供给处理气体；及

基板支撑台，配置在所述腔室的内部且支撑基板，

所述基板支撑台，具有通过分别的流通渠道，向所述基板的上部边缘及下部边缘供给净化气体的流通渠道。