[发明专利]土遗址地下水位精密调节系统

权利要求书

1.一种土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于包括封闭式的止水围护系统（1），还包括深层导流系统（2）和排灌系统（3），所述的深层导流系统（2）位于止水围护系统（1）内，并与所述的排灌系统（3）相连。

2.根据权利要求1所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的止水围护系统（1）包括防渗墙（11）和位于防渗墙（11）上端的表层排水沟（12），以及至少一个集水井（13），该表层排水沟（12）与集水井（13）相连通。

3.根据权利要求2所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的深层导流系统（2）包括位于所述防渗墙（11）内壁的渗水层（21），以及至少一个排灌井（23），并且，所述的渗水层（21）与排灌井（23）相连通。

4.根据权利要求3所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的深层导流系统（2）还包括位于所述防渗墙（11）底部的导流管路（22），该导流管路（22）沿所述防渗墙（11）的围护方向布置，并且，所述的导流管路（22）与排灌井（23）相连通。

5.根据权利要求3或4所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的排灌系统（3）包括安装于所述排灌井（23）内的水位观测仪（31）及与外部管道相连通的排灌设施（32）。

6.根据权利要求5所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的防渗墙（11）的下端呈外长内短的阶梯状，所述的导流管路（22）设于防渗墙（11）下端的内侧台阶面上。

7.根据权利要求6所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的止水围护系统的防渗墙（11）内每隔一定距离布置一个排灌井（23），所述防渗墙（11）外每隔一定距离布置一个集水井（13）。

8.根据权利要求7所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的所述的集水井（13）位于所述防渗墙（11）的上端。

9.根据权利要求8所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述土遗址的内部区域还设有用于加快渗水速度的若干浅层盲沟（5），所述的浅层盲沟（5）的端部均延伸至所述防渗墙（11）内侧的渗水层（21）。

10.根据权利要求9所述的土遗址地下水位精密调节系统，其特征在于所述的渗水层（21）为布满防渗墙（11）内壁的竖向渗水层，采用土工布或其它渗水材料。