[发明专利]土遗址地下水位精密调节系统有效

专利信息
申请号: 201310690340.7 申请日: 2013-12-16
公开(公告)号: CN103628490A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 周湘渝;曾宪灵;全洪;马振华;曾锋;付英毅;周皝 申请(专利权)人: 广东省建工设计院;广州京维智能科技有限公司
主分类号: E02D19/06 分类号: E02D19/06;E02D19/18;E02D19/08;E02D19/10;E02D31/02
代理公司: 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人: 王洪娟
地址: 510620 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 遗址 地下水位 精密 调节 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及文物遗址保护技术领域,尤其涉及一种土遗址地下水位精密调节系统。

背景技术

土遗址指以上土质材料为主体组成的具有历史、艺术、科学价值的古代建筑遗址、构筑物等多人类活动遗迹。土遗址内包含丰富的历史、文化内涵,是文化遗产的重要种类。由于大多数土遗址原埋藏于地下,在考古发掘后如需开放展示,原址保护展示是最常用的手段。遗址的安全保存是开放展示的前提条件,由于土遗址所入的环境条件复杂,保护必须根据其环境影响因素制定有效措施。在地下水位较高的地区,由于地下水位的季节性变化、降水情况及空气相对湿度的变化,都会导致土遗址内部含水率的波动,如果这个波动过大,将导致土遗址在剧烈的干湿交变过程中加速风化、开裂,最终导致土遗址本体及各种遗迹现象的破坏乃至消失。在地下水位多变,降水量丰富的地区,如何控制土遗址保存环境的地下水位,从而控制土遗址本体的含水率,为土遗址保护提供最佳的条件,已经成为众多土遗址保护面临的难题。

发明内容

本发明的目的是提供一种土遗址地下水位精密调节系统。本发明能够根据土遗址在开放展示过程中的需要,在一定范围内调节地下水位,使其达到适合该遗址的具体需求。

本发明的技术方案是:一种土遗址地下水位精密调节系统,包括封闭式的止水围护系统,还包括深层导流系统和排灌系统,所述的深层导流系统位于止水围护系统内,并与所述的排灌系统相连。

进一步的,所述的止水围护系统包括防渗墙以及位于防渗墙上端的表层排水沟,以及至少一个集水井,该表层排水沟与集水井相连通。其作用是将土遗址内外的地下水完全隔开并将地表水及土遗址周边的浅层滞水排出。

进一步的,所述的深层导流系统包括位于所述防渗墙内壁的渗水层,以及至少一个排灌井,并且,所述的渗水层与排灌井相连通。

进一步的,所述的深层导流系统还包括位于所述防渗墙底部的导流管路,该导流管路沿所述防渗墙的围护方向布置,并且,所述的导流管路与排灌井相连通。

进一步的,所述的排灌系统包括安装于所述排灌井内的水位观测仪及与外部管道相连通的排灌设施。所述的排灌系统不仅可以将系统内部的水抽出,而且还可以向系统内部注水。

进一步的,所述的防渗墙的下端呈外长内短的阶梯状,所述的导流管路设于防渗墙下端的内侧台阶面上。

进一步的,所述的导流管路采用钢花管、塑料花管、透水性较强的粗骨料填充物或各种透水材料相互组合而成。

进一步的,所述的止水围护系统的防渗墙内每隔一定距离布置一个排灌井,所述防渗墙外每隔一定距离布置一个集水井。

进一步的,所述的集水井位于所述防渗墙的上端。

进一步的,所述土遗址的内部区域还设有用于加快渗水速度的若干浅层盲沟,所述的浅层盲沟的端部均延伸至所述防渗墙内侧的渗水层。

进一步的,所述的渗水层为布满防渗墙内壁的竖向渗水层,采用土工布或其它渗水材料。

本发明的有益效果是:

(1)本发明的土遗址地下水位精密调节系统,通过止水围护体系深层导流系统及排灌系统可以在一定范围内调节地下水位,使其达到适合该土遗址的最佳要求。

(2)本发明的土遗址地下水位精密调节系统,可以适应各种土遗址的具体要求,还可以选择是否增设浅层盲沟,通过灵活设置浅层盲沟可以加快渗水速度,达到最理想的调控效果。

(3)本发明的土遗址地下水位精密调节系统,排灌系统中排灌井除了排灌功能外,还用来作为水位观测,其数量可以根据文物遗址现场环境灵活布局。

(4)本发明的土遗址地下水位精密调节系统,排灌系统不仅可以将土遗址内的水排出,也可以根据需要向遗址内注水。

附图说明

图1为本发明的土遗址地下水位精密调节系统的平面布置示意图之一;

图2为导流系统的放大示意图(图1的A-A向剖视图);

图3为排灌井及排灌系统的放大示意图(图1的B-B向剖视图);

图4为浅层排水沟及集水井放大示意图(图1的C-C向剖视图);

图5为本发明的土遗址地下水位精密调节系统的平面布置示意图之二。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

以下结合具体附图对本发明的实现进行详细的描述。

实施例1

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