[发明专利]确定布局设计是否是N‑可染色的方法

权利要求书

1.一种确定用于制造集成电路的部件层的布局设计是否为N-可染色的方法，N是不小于2的正整数，所述布局设计包括以分层方式布置的布局单元，所述布局单元包括基础布局单元组和复合布局单元组，所述复合布局单元组包括顶层布局单元，所述顶层布局单元代表所述布局设计，并且所述方法包括：

从所述布局单元中标识出候选单元组，所述候选单元组中的每个候选单元都是所述基础布局单元组中的一个基础布局单元或者所述复合布局单元组中的一个复合布局单元，并且所述复合布局单元组中的所述一个复合布局单元的布局组成单元已被确定为N-可染色；

确定所述候选单元组中的第一候选单元是否为N-可染色；以及

当所述第一候选单元为N-可染色并且不是所述顶层布局单元时，通过硬件处理单元，生成所述第一候选单元的邻接敏感冲突图，

其中，生成所述第一候选单元的邻接敏感冲突图，包括：

在所述第一候选单元内限定邻接敏感区，其中，所述第一候选单元内的邻接敏感区被限定在所述第一候选单元的单元边界和所述第一候选单元的封锁边界之间，通过将所述第一候选单元的单元边界向内移动一距离来限定所述封锁边界；

生成与落在所述邻接敏感区中的布局图案组相对应的顶点组；

当能够给所述顶点组中的两个顶点分配相同颜色时，通过相同颜色链路来连接这两个顶点。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，以迭代方式重复进行所述标识操作、所述确定操作以及所述生成操作。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：

当所述顶层单元是N-可染色时，报告所述布局设计是N-可染色；以及

当所述布局单元中有任何一个不是N-可染色时，报告所述布局设计不是N-可染色。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括：确定所述候选单元组中的第二候选单元是否为N-可染色，其中，以并行处理方式处理确定所述第一候选单元是否为N-可染色和确定所述第二候选单元是否为N-可染色。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述第一候选单元的邻接敏感冲突图还包括：当能够给所述顶点组中的两个顶点分配不同颜色时，通过不同颜色链路来连接这两个顶点。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述第一候选单元的邻接敏感冲突图还包括：

当所述邻接敏感冲突图在包括另一个顶点之前具有两个或更多不同的配置时，将所述另一个顶点包括在所述邻接敏感冲突图中，所述另一个顶点与所述第一候选单元中未落在所述邻接敏感区内的布局图案相对应。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述距离等于或大于预设阈值距离和预设的单元重叠允许公差之和。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一候选单元包括所述布局组成单元的组合，并且所述方法还包括：

根据所述第一候选单元的布局组成单元的邻接敏感冲突图，生成所述第一候选单元的冲突图。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，生成所述第一候选单元的冲突图包括：

当两个顶点分别来自所述布局组成单元中的两个相邻布局单元的相应邻接敏感冲突图时，通过不同颜色链路来连接所述两个顶点；并且所述两个顶点代表的布局图案之间的距离小于预设阈值距离。

10.根据权利要求8所述的方法，还包括：

从所述第一候选单元的冲突图中去除一个或多个可省略的顶点。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，从所述第一候选单元的冲突图中去除一个或多个顶点包括：

当所述一个或多个可省略的顶点中的一个顶点连接至所述第一候选单元的冲突图中个数少于(N-1)的顶点时，从所述第一候选单元的冲突图中去除所述一个或多个可省略的顶点中的这个顶点。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：

在确定所述顶层单元是N-可染色之后，对所述布局设计实施N-可染色。