[发明专利]电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法有效
| 申请号： | 201310722462.X | 申请日： | 2013-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104731422B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 安乐平;洪耀;王龙;高明;尤沛升 | 申请（专利权）人： | 昆山维信诺显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 穆瑞丹 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 氧化铟锡薄膜 触控面板 电容屏 触摸屏产品 激光蚀刻线 互不连接 生产效率 显示效果 分割 | ||
1.一种电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，其特征在于：所述刻蚀方法包括利用激光刻蚀线将间隙部分(2)的ITO分割成若干ITO段(5)，各个所述ITO段(5)相互独立且互不连接；所述ITO段(5)采用两道激光刻蚀线交叉走线形成，所述两道激光刻蚀线的中心线在趋近交叉点(7)过程中的距离小于一道激光刻蚀线的宽度。
2.根据权利要求1所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线在临近所述交叉点(7)处相互平行且有部分重叠。
3.根据权利要求2所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线相互错位0.01mm。
4.根据权利要求1-3任一所述的刻蚀方法，其特征在于：每段所述ITO段(5)长度的取值范围是[2mm,4mm]。
5.根据权利要求4所述的刻蚀方法，其特征在于：每段所述ITO段(5)的长度选取为3mm。
6.根据权利要求1-3任一项所述的刻蚀方法，其特征在于：所述间隙部分(2)的宽度取值范围是[0.2mm,0.3mm]。
7.根据权利要求1所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线在所述间隙部分(2)形成间隙区域激光刻蚀走线(4)。
8.根据权利要求7所述的刻蚀方法，其特征在于：所述间隙区域激光刻蚀走线(4)的中心线与电容屏触控面板显示区域(1)的图形激光刻蚀走线(3)的中心线的距离小于一道激光刻蚀线的宽度。
9.一种电容屏触控面板，包括绝缘透明基板、感应线路层和驱动线路层，所述绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜，所述氧化铟锡薄膜包括显示区域(1)和间隙区域(2)，其特征在于：所述间隙部分(2)的氧化铟锡薄膜采用上述权利要求1-8任一所述刻蚀方法进行刻蚀。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山维信诺显示技术有限公司，未经昆山维信诺显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310722462.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
