[发明专利]电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法

说明书

一种电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，包括利用激光蚀刻线将间隙部分的ITO分割成若干ITO段，各个所述ITO段相互独立且互不连接。本发明的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法生产效率高，而且刻蚀后的触摸屏产品显示效果佳。

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法。

背景技术

现有的电容式触摸屏主要包括电容屏触控面板和柔性电路板，在柔性电路板的上方覆盖有盖板。其中，电容屏触控面板简称为sensor，包括绝缘透明基板、感应线路层和驱动线路层。其中，绝缘透明基板选自玻璃或塑料薄膜的其中一种；感应线路层为具感应线路的透光性导电薄膜或玻璃；驱动线路层为具驱动线路的透光性导电薄膜或玻璃，且驱动线路层和感应线路层分别叠置在该绝缘透明基板的两侧。

在电容屏触控面板的绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜（ITO Film），其包括显示区域1和间隙区域2，如图1所示，所述显示区域1和所述间隙区域2相间分布，受电容屏触控面板的控制芯片要求的限制所述间隙区域2的宽度一般为3mm。由于间隙区域的ITO具有寄生电容，在芯片支持功能要求的限制下，如果间隙区域的ITO不刻蚀掉，在产品进行触摸使用时会产生触摸信号漂移，严重影响产品的触摸识别精度，因此间隙区域的ITO必须要刻蚀掉才能保证产品触摸精度。现有的刻蚀方式如图2所示，两条图形激光蚀刻走线3之间的部分为所述间隙区域2，间隙区域激光蚀刻走线4平行于所述图形激光蚀刻走线3进行刻蚀，因为间隙区域的宽度取值范围一般为[0.2mm,0.3mm]mm，所以通常需要几十道激光蚀刻线才能蚀刻掉线所述间隙区域2的ITO。但是，采用这种刻蚀方法加工出来的产品，显示图像时屏幕上会出现明显的刻蚀条纹，即刻蚀掉的部分的透过率大于显示区域图形部分的透过率，所以图像看起来有明显条纹，这就使得触摸屏产品显示效果很差，而且由于需要十几道激光加工工序，生产效率也很低。

发明内容

为此，本发明所要解决的技术问题在于经过现有电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法加工后的产品显示效果差，而且生产效率低的问题，而提供一种显示效果佳、生产效率高的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：

一种电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，包括利用激光蚀刻线将间隙部分的ITO分割成若干ITO段，各个所述ITO段相互独立且互不连接。

上述刻蚀方法中，采用两道激光蚀刻线交叉走线形成若干相互独立且互不连接的所述ITO段,两道激光蚀刻线在所述间隙部分形成间隙区域激光蚀刻走线。

上述刻蚀方法中，两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点过程中的距离小于一道激光蚀刻线的宽度。

上述刻蚀方法中，两道激光刻蚀线在临近交叉点处相互平行且有部分重叠。

上述刻蚀方法中，两道激光刻蚀线相互错位0.01mm。

上述刻蚀方法中，当两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点过程中的距离大于一道激光蚀刻线的宽度时，相邻所述ITO段的间隔在靠近两侧所述ITO段的位置上形成间隔部分ITO段，所述间隔部分ITO段相互独立且互不连接。

上述刻蚀方法中，每段所述ITO段长度的取值范围是[2mm,4mm]。

上述刻蚀方法中，每段所述ITO段的长度选取为3mm。

上述刻蚀方法中，所述间隙区域激光蚀刻走线的中心线与所述电容屏触控面板显示区域的图形激光蚀刻走线的中心线的距离小于一道激光蚀刻线的宽度。

上述刻蚀方法中，所述间隙部分的宽度取值范围是[0.2mm,0.3mm]。