[发明专利]一种双气浮大型基板传输装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种集成电路装备制造领域,尤其涉及一种双气浮大型基板传输装置。

背景技术

    在光刻机等众多半导体设备中，基板传送进曝光工位时需要经过传输工位进行交接。现有技术一般为曝光前设置一个传输工位，基板传送到曝光位置。随着集成电路制造行业的高速发展，要传输的基板越来越大，需要高效的传输大型基板，提高生产率，在曝光前只设置一个单层的传输工位，使曝光等待时间长，效率低。而现有技术也无法通过降低上板时间来提高大型基板的传输效率。

    针对高效传输大型基板的需求，本发明提供一种双气浮大型基板传输装置大幅度降低曝光工位对上板的等待时间，提高生产率，同时控制基板温度与曝光环境温度一致，保证曝光质量,特别适合光刻机的大型基板传输。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺陷，本发明提供一种在传输工位上设置双层气浮同时承载两块基板装置。

为了实现上述发明目的，本发明公开一种双气浮大型基板传输装置，包括：一气浮框架，该气浮框架位于一机架上，并可相对机架上升和下降运动，该气浮框架上设有结构相同的第一气浮单元和第二气浮单元，该第一气浮单元位于该第二气浮单元的垂直上方，该第一、第二气浮单元分别包括安装在气浮框架上的气浮块上，以及位于该气浮块上的垂向传输模块。

更进一步地，该气浮框架通过滑轨与该机架连接。

更进一步地，该垂向传输模块包括气缸和真空吸盘，该气缸带动该真空吸盘作垂向运动。

更进一步地，还包括垂向提升单元驱动所述气浮框架相对机架上升和下降运动，该垂向提升单元包括电机和提升机构，该电机和提升机构固定于该机架上。

更进一步地，第一气浮单元和第二气浮单元还分别包括支架，直线电机带动该支架作伸出和回缩运动。

与现有技术相比较，本发明所公开的双气浮大型基板传输装置利用双层气浮承载两块基板的功能，无需等待基板的从板库到曝光工位的上板时间，缩短了曝光工位的下板和上板时间间隔，提高了生产效率，同时控制基板温度与曝光环境温度一致，保证曝光质量。

附图说明

关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。

图1是本发明所示出的一种双气浮大型基板传输装置的结构示意图；

图2是本发明所示出的一种双气浮大型基板传输装置的工作流程图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的一种具体实施例的用于光刻设备的双气浮大型基板传输装置。然而，应当将本发明理解成并不局限于以下描述的这种实施方式，并且本发明的技术理念可以与其他公知技术或功能与那些公知技术相同的其他技术组合实施。

在以下描述中，为了清楚展示本发明的结构及工作方式，将借助诸多方向性词语进行描述，但是应当将“前”、“后”、“左”、“右”、“外”、“内”、“向外”、“向内”、“上”、“下”等词语理解为方便用语，而不应当理解为限定性词语。此外，在以下描述中所使用的“X向”一词主要指与水平向平行的方向；“Y向”一词主要指与水平向平行，且与X向垂直的方向；“Z向”一词主要指与水平向垂直，且与X、Y向均垂直的方向，“垂向”一词主要指与水平向平行，“Rx向”一词主要指绕X轴方向、“Ry向”一词主要指绕Y轴方向。

本发明提供一种双气浮大型基板传输装置。该双气浮大型基板传输装置的具体结构如图1所示，包括：气浮框架1、直线电机2、气浮块3、提升机构4、电机5、支架6、真空吸盘7、气缸8、滑轨9、机架10。气浮框架1通过滑轨9与机架10联接。电机5和提升机构4固定在机架10上，提升机构4输出端与气浮框架连接，电机5驱动提升机构4输出垂向上升和下降运动，气浮框架1在提升机构4的带动下沿滑轨9相对机架10作上升和下降运动。气浮框架1上装有两层一样的装置，它们都随气浮框架1一起作上升和下降运动，分别包括气浮块3、直线电机2、支架6、真空吸盘7和气缸8。气浮块3、直线电机2固定在气浮框架1上，它们随气浮框架1一起作上升和下降运动。真空吸盘7安装在气缸8上，气缸8带动真空吸盘7作垂向运动；气缸8安装在支架6，而支架6安装在直线电机2上，直线电机2带动支架6作伸出和回缩运动。