[发明专利]一种被动偏光式三维显示装置及其制作方法有效
申请号: | 201310738708.2 | 申请日: | 2013-12-27 |
公开(公告)号: | CN103698894A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 申莹;尹傛俊;涂志中 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B27/26 | 分类号: | G02B27/26;H04N13/04;G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 被动 偏光 三维 显示装置 及其 制作方法 | ||
1.一种被动偏光式三维显示装置,包括液晶面板及位于所述液晶面板出光侧的位相差结构,所述液晶面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,所述位相差结构上排列多个图案位相差膜片;其特征在于,包括:
所述阵列基板远离所述液晶层的一侧存在多个遮光条,所述多个遮光条在位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片分界线;
所述彩膜基板面向所述阵列基板一侧存在多个黑矩阵条,所述多个黑矩阵条在所述位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片分界线。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮光条在所述位相差结构上的投影被黑矩阵条在所述位相差结构上的投影覆盖。
3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述遮光条在所述位相差结构上的投影与所述黑矩阵条在所述位相差结构上的投影重合。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述遮光条与所述黑矩阵条的大小形状相同。
5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮光条的材质为金属或者压克力聚合物。
6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮光条在所述位相差结构上的正投影关于其覆盖的图案位相差膜片分界线对称。
7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述遮光条设置在所述阵列基板的玻璃基板面向所述第一偏光片的一侧。
8.一种被动偏光式三维显示装置的制作方法,其特征在于,包括:
在阵列基板远离液晶层的一侧制作多个遮光条,在彩膜基板面向所述阵列基板的一侧制作多个黑矩阵条;
所述阵列基板与所述彩膜基板对盒;在所述液晶盒彩膜基板一侧黏贴位相差结构,所述位相差结构上排列多个图案位相差膜片;
所述多个遮光条在位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片的分界线,所述多个黑矩阵条在所述位相差结构上的正投影覆盖所述位相差结构上各图案位相差膜片的分界线。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在阵列基板远离液晶层的一侧制作多个遮光条,具体包括:
在阵列基板上的玻璃基板远离液晶层的一侧,制作金属膜;
通过对所述金属膜进行曝光,显影,蚀刻,剥离制作多个金属遮光条。
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