[发明专利]PTC发热片、以及低温辐射电热膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310744178.2 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103687098A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 曾贤瑞;侯李明;臧育锋;何志勇;史宇正 申请(专利权)人: 上海神沃电子有限公司
主分类号: H05B3/03 分类号: H05B3/03;H05B3/10;H05B3/34
代理公司: 上海百一领御专利代理事务所(普通合伙) 31243 代理人: 陈贞健
地址: 201108 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: ptc 发热 以及 低温 辐射 电热 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种PTC发热片,包括一基材和复合于所述基材两侧的导电极,其特征在于,所述导电极采用铜箔,所述铜箔一面形成复数个凸起构成粗糙面,所述铜箔通过所述粗糙面热压合固定于所述基材上。

2.根据权利要求1所述的PTC发热片,其特征在于:构成所述基材的质量百分比组分为:

3.根据权利要求2所述的PTC发热片,其特征在于:所述导电填料采用碳黑;所述无机填料采用氢氧化镁。

4.根据权利要求3所述的PTC发热片,其特征在于:所述铜箔的宽度为5-15mm。

5.一种基于权利要求1-4任一项所述的PTC发热片的低温辐射电热膜,其特征在于:包括所述PTC发热片、温控器和热压固定于所述PTC发热片两面的绝缘膜;所述PTC发热片的导电极连接有导线,所述导线连接有防水插头,所述温控器连接于所述导线上。

6.根据权利要求5所述的低温辐射电热膜,其特征在于:所述温控器通过一连接线连接于一温度控制中心。

7.根据权利要求5或6所述的低温辐射电热膜,其特征在于:所述绝缘膜涂布有胶层,并通过所述胶层热压固定于所述PTC发热片上。

8.根据权利要求9所述的低温辐射电热膜,其特征在于:所述胶层采用热熔胶或不干胶。

9.根据权利要求8所述的低温辐射电热膜,其特征在于:所述绝缘膜采用聚酯膜、聚丙烯膜或聚酰胺膜。

10.根据权利要求9所述的低温辐射电热膜,其特征在于:所述防水插头采用快接插头。

11.一种基于权利要求10所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:

S1:按照高密度聚乙烯50~70%、导电填料20~40%、无机填料5~10%和偶联剂0.1~0.5%的质量百分比比例称取各组分并高速混合,获得混合物料;

S2:将所述混合物料通过单螺杆的T型模口挤出,获得挤出物料;

S3:将所述挤出物料通过压延机压成固定厚度并将其两边缘裁平,获得一片材;

S4:通过四辊压机将所述片材、所述铜箔和所述绝缘膜压合在一起;

S5:冷却收卷;

S6:按需求裁切成所需长度;

S7:安装导线、防水插头并在导线上安装温控器。

12.根据权利要求11所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,在所述高速混合步骤前先将称取的所述高密度聚乙烯磨成粉料;

所述高速混合步骤具体为:将所述各组分通过一高速混合机双螺杆剪切熔融共混10分钟。

13.根据权利要求12所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,所述导电填料采用碳黑;所述无机填料采用氢氧化镁。

14.根据权利要求13所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,所述S2步骤中,所述混合物料在150~220℃温度下挤出。

15.根据权利要求14所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,所述S3步骤中,所述挤出物料在150℃温度下压延。

16.根据权利要求15所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,所述S4步骤具体包括:

将所述铜箔设置于所述片材一面的两侧,且所述铜箔的粗糙面抵靠所述片材;

将两所述绝缘膜涂覆热熔胶并覆盖于所述片材和所述铜箔外;

将所述片材、所述铜箔和所述绝缘膜通过四辊压机在150℃下热压合。

17.根据权利要求16所述的低温辐射电热膜的制备方法,其特征在于,所述S7步骤中,所述安装导线步骤具体包括:

通过铆钉将所述导线与所述铜箔连接;

在所述导线与所述铜箔的连接处外部包裹绝缘胶带与铝箔。

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