[发明专利]真空反应腔以及真空加工设备

说明书

技术领域

本发明涉及光伏产业、半导体、液晶面板产业的真空刻蚀与真空镀膜设备，特别是涉及一种真空反应腔以及真空加工设备。

背景技术

光伏产业、半导体、液晶面板产业中经常用到的真空刻蚀设备或真空镀膜设备中的真空反应腔一般采用不透明的金属材质制造而成。这种真空反应腔一般会设置透明石英玻璃材质的观察窗，以便于操作者在生产异常时或者出于某种目的监测时观察真空设备内部情况。

现有的真空加工设备的观察窗均不包括保护设施，这致使观察窗长期裸露在制程反应环境中，一段时间后，观察窗会因为玻璃雾化而无法正常使用，不得不定期更换，浪费大量人力、物力，同时间接降低设备的稼动率；而且部分反应制成需要操作者通过观察窗探测反应物和生成物光谱以控制反应时间，由于观察窗被电浆雾化，导致光谱探测不精确并进一步导致刻蚀不充分，严重影响产品品质；另外一方面，真空反应腔室的内壁板会受到刻蚀过程中电浆和反应物的刻蚀，导致内壁板氧化层缺失，内壁板导电，大大缩短了内壁板的使用寿命，浪费大量资金，同时壁板更换也浪费了人力，并降低设备稼动率，影响生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种有效隔离反应物及离子轰击对观察窗的伤害的，有效提高观察窗的使用寿命的真空反应腔以及真空加工设备。

本发明的真空反应腔，包括多个壁板，多个所述壁板围合形成用于容纳工件的腔室，多个所述壁板中至少一个壁板上设置有观察装置，所述观察装置包括设置于所述壁板上的观察窗以及设置于所述壁板的面向腔室的内部的一侧的用于遮挡观察窗的遮挡板，所述遮挡板可在遮挡所述观察窗的第一位置以及不遮挡所述观察窗的第二位置之间运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述遮挡板与用于带动所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间运动的运动杆连接，所述运动杆由所述腔室的内部伸出。

本发明的真空反应腔，其中，所述运动杆由所述腔室的内部伸出的一端连接有弹簧管，所述弹簧管通过压缩带动所述运动杆向所述腔室的内部运动以使所述遮挡板由所述第二位置运动至所述第一位置，所述弹簧管通过伸长带动所述运动杆向所述腔室的外部运动以使遮挡板由所述第一位置运动至所述第二位置。

本发明的真空反应腔，其中，所述弹簧管的一端与所述运动杆的由所述腔室的内部伸出的一端连接，所述弹簧管的另一端连接有手柄，所述手柄通过带动所述弹簧管伸长或压缩以使所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述真空反应腔还包括用于带动所述弹簧管伸长或压缩的动力机构，所述弹簧管的一端与所述运动杆的由所述腔室的内部伸出的一端连接，所述弹簧管的另一端与所述动力机构连接，所述动力机构通过带动所述弹簧管伸长或压缩以使所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述动力机构包括：

用于带动所述弹簧管伸长或压缩以使所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间运动的动力部件；

控制器，所述控制器与所述动力部件连接，所述控制器通过控制所述动力部件的运动控制所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间的运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述动力部件为电机，所述电机的输出轴与所述弹簧管的另一端连接，所述控制器与所述电机连接，所述控制器通过控制所述电机的运动控制所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间的运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述动力部件为气缸，所述气缸的活塞杆与所述弹簧管的另一端连接，所述控制器与所述气缸连接，所述控制器通过控制所述气缸的活塞杆的运动控制所述遮挡板在所述第一位置和第二位置之间的运动。

本发明的真空反应腔，其中，所述观察窗的上方、下方分别设置有第一沟槽以及与第一沟槽相对的第二沟槽，所述遮挡板可滑动地安装于所述第一沟槽以及所述第二沟槽之间，所述第一沟槽以及第二沟槽用于对在所述第一位置和第二位置之间运动的所述遮挡板导向。

本发明的真空反应腔，其中，所述第二沟槽的槽底可旋转地设置有滚珠，所述遮挡板通过所述滚珠可滑动地安装于所述第二沟槽内。

本发明的真空反应腔，其中，所述运动杆位于所述腔室的内部的部分镶嵌于所述壁板的内部。

本发明的真空反应腔，其中，所述运动杆位于所述腔室的内部的部分的外侧设置有防护板。

本发明的真空反应腔，其中，多个所述壁板中至少一个壁板上设置有多个所述观察装置，多个所述观察装置的所述遮挡板分别通过连接杆与所述运动杆连接，以使所述运动杆同时带动多个所述观察装置的所述遮挡板运动。