[发明专利]一种掩膜板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机发光二极管显示器的制作领域，更具体的说是涉及一种掩膜板及其制作方法。

背景技术

有机电致发光器件（OLED）以其低成本、高亮度、高对比度、响应快、低功耗、视角广、外观轻薄、可柔性显示等优点，被认为是下一代的平板显示装置，有望取代现阶段的液晶显示器（LCD）。OLED具有依次堆叠在玻璃基板上的阳极、有机发光层和阴极。有机发光层的材料一般分为大分子有机材料和小分子有机材料。对于小分子有机材料，通常利用真空蒸镀的方法，在阳极上形成各有机功能层，最后再形成器件的阴极。

在OLED中，为了实现全彩化，需要在发光层分别形成R、G、B发光区域，在采用蒸镀方法制作OLED薄膜的过程中，需要更换不同的掩膜板来形成不同颜色的区域，在蒸镀中对掩膜板的精度要求很高，如图1和图2所示，分别为现有掩膜板的爆炸图和俯视图，现有掩膜板的制作方法为：1、制作掩膜框20，所述掩膜框具有开口；2、用约0.03mm厚的超薄不锈钢基材，通过半刻蚀的方法对不锈钢基材进行两面刻蚀，刻蚀出掩膜图案12，形成掩膜通孔；3、将形成掩膜图案12的超薄不锈钢基材的四周11用其它物体黏住然后张网拉紧，保证掩膜图案12中的每根细线都拉直且受力均匀，形成条形通孔12b和掩膜线12a；4、将拉紧的不锈钢网通过激光焊接技术焊接到掩膜框20上，再沿着掩膜框20的周围激光切割掉多余的不锈钢，同时去掉之前的张网，形成完整的掩膜板（即图2中所示）。

在OLED制备过程中，需要蒸镀时，将所述掩膜板放置在需要蒸镀的板材上，将有机材料加热蒸发，有机材料经过掩膜板上的孔12b沉积在板材上，而掩膜线12a有效的将有机材料阻隔开。

但是，现有的掩膜板在应力作用下容易出现弯曲，造成掩膜区域的边界不清晰，在不需要蒸镀有机材料的地方也会形成有机材料沉积，影响有机材料蒸镀质量。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种掩膜板及其制作方法，以提高掩膜板的平整度和机械强度，从而在蒸镀有机材料时，使有机材料的边界较清晰，提高有机材料的蒸镀质量。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种掩膜板，应用在有机发光二极管显示装置的真空蒸镀工艺中，包括：

掩膜框，所述掩膜框带有开口；

固定在所述掩膜框上的掩膜，所述掩膜上包括多个掩膜图案块，所述掩膜图案块包括贯穿所述掩膜的通孔；

其中，所述掩膜上朝向所述掩膜框的表面还包括支撑条，所述支撑条位于所述掩膜图案块外的其他区域，所述支撑条的厚度大于0.03mm。

优选地，所述支撑条的厚度范围为0.03mm-20mm，包括端点值。

优选地，所述支撑条为一条，且该条支撑条通过掩膜的中心。

优选地，所述支撑条的个数为2条以上。

优选地，所述支撑条相互平行设置。

优选地，所述支撑条相互垂直交叉设置在所述掩膜上。

优选地，所述掩膜框与所述掩膜的材料相同，均为不锈钢、或金属、或金属合金。

一种掩膜板制作方法，用于制作上面任意一项所述的掩膜板，所述制作方法包括：

提供掩膜框，所述掩膜框带有开口；

提供掩膜基板，所述掩膜基板的厚度大于0.03mm；

减薄所述掩膜基板上需要形成掩膜图案块的区域，剩余未减薄区域形成支撑条；

在减薄后的区域形成掩膜通孔，完成掩膜制作；

将掩膜与掩膜框直接固定在一起。

优选地，所述减薄所述掩膜基板上需要形成掩膜图案块的区域，剩余未减薄区域形成支撑条，具体包括：

在所述掩膜基板的一面涂抹保护胶；

对所述涂有保护胶的掩膜基板局部遮挡，并曝光；

对经过曝光的掩膜基板显影，暴露出待减薄的掩膜图案块的区域；

对暴露出的掩膜图案块区域进行刻蚀，减薄所述掩膜图案块区域，同时形成支撑条。

优选地，所述在减薄后的区域形成掩膜通孔，具体包括：

在所述减薄后的区域的第一表面进行第一次半刻蚀，在需要形成掩膜通孔的地方形成凹槽；

在所述减薄后的区域与所述第一表面相对的第二表面进行第二次半刻蚀，将所述减薄后的区域的第二表面上与所述凹槽对应的位置刻蚀至形成掩膜通孔。

优选地，所述将掩膜与掩膜框固定在一起的固定方法为激光焊接或电弧焊接。

优选地，所述掩膜框通过铸造工艺加工成型或通过机械切割加工成型。