[实用新型]导电性膜及导电性膜卷有效
| 申请号： | 201320001397.7 | 申请日： | 2013-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN203217965U | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 藤野望;鹰尾宽行;石桥邦昭 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电性 | ||
【权利要求书】：
1.一种导电性膜，其特征在于，所述导电性膜具备：
膜基材，
形成在所述膜基材的一侧的第1透明导电体层，
形成在所述第1透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第1铜层，
形成在所述膜基材的另一侧的第2透明导电体层，
形成在所述第2透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第2铜层，
形成在所述第1铜层的与所述第1透明导电体层相反侧、厚度为1nm～15nm的第1氧化被膜层，所述第1氧化被膜层实质上仅由氧化亚铜构成。
2.如权利要求1所述的导电性膜，其特征在于，所述第1氧化被膜层的厚度为1.0nm～8.0nm。
3.如权利要求1所述的导电性膜，其特征在于，所述导电性膜还具有形成于所述第2铜层、厚度为1nm～15nm的第2氧化被膜层，所述第2氧化被膜层实质上仅由氧化亚铜构成。
4.一种导电性膜卷，其特征在于，所述导电性膜卷是将权利要求1～3中的任一项所述的导电性膜卷成卷状而构成的。
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