[实用新型]一种硅片清洗系统有效
| 申请号： | 201320010915.1 | 申请日： | 2013-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN203002684U | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 龙峰;杨银博;黄杰;汪飞;陈熙 | 申请（专利权）人： | 英利集团有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/14;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 071051 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 系统 | ||
1.一种硅片清洗系统，其特征在于，包括硅片预清洗机，储水装置，硅片清洗机，第一输水管路，第二输水管路，其中，所述硅片预清洗机至少具有进水口和输水口，所述硅片清洗机至少具有出水口，所述储水装置至少具有进水口；所述硅片清洗机出水口的水平位置高于所述硅片预清洗机的进水口，硅片预清洗机进水口与硅片清洗机出水口通过第一输水管路相连，硅片预清洗机的输水口与储水装置的进水口通过第二输水管路相连。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述第一输水管路的内径大于或等于100毫米。
3.根据权利要求2所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述第二输水管路的内径大于或等于200毫米。
4.根据权利要求3所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述储水装置顶部的水平高度高于所述副储水槽。
5.根据权利要求4所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述硅片预清洗机内设置有循环水槽、循环水泵、副储水槽，所述循环水槽的进水口是所述硅片预清洗机的进水口，所述循环水槽的出水口连接所述循环水泵的进水口，所述循环水泵的出水口连接所述副储水槽的进水口；所述副储水槽的出水口是所述硅片预清洗机的输水口，与储水装置的进水口通过第二输水管路相连。
6.根据权利要求5所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述硅片预清洗机还包括，过滤流向副储水槽和储水装置的水的过滤装置，该过滤装置的进水口与所述循环水泵的出水口相连，该过滤装置的出水口与所述副储水槽的进水口相连。
7.根据权利要求4所述的硅片清洗系统，其特征在于，所述硅片清洗系统还包括水泵，其中，所述水泵至少具有出水口和进水口；所述硅片清洗机出水口连接所述水泵的进水口，所述水泵的出水口连接所述硅片预清洗机的进水口。
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