[实用新型]一种硅片清洗系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体器件制造技术，尤其涉及一种硅片清洗系统。

背景技术

硅片，是一种半导体器件基础材料，是由硅锭通过切割加工成具有一定厚度的片状基底材料。通过在基底材料上进行若干工序形成具有各种功能的半导体器件，是组成各种电子设备的基础。

在硅片的加工过程中，对硅片的清洗一般使用硅片预清洗机和硅片清洗机。硅片预清洗机，是对切割后的硅片进行清洗和脱胶处理的设备。硅片清洗机，是对切割后的硅片进行清洗和干燥处理的设备。一般的清洗工序，先通过硅片预清洗机对硅片进行清洗和脱胶处理，然后通过硅片清洗机对硅片进行清洗和干燥处理。然而，在清洗工序，需要耗费大量的纯水，浪费水资源，同时，对清洗后的大量的污水处理也增加了污水回收公司的负担。

由于硅片预清洗机对水质要求低于硅片清洗机，现有技术中的硅片清洗系统如图1所示，通过铺设管路，把硅片清洗机排放的废水收集到储水池内，通过潜水泵把水打到硅片预清洗机的副储水槽内供硅片预清洗机使用，以达到对废水的二次利用的目的。

由于现有技术需要挖设储水池，添加潜水泵和相应的控制回路，设计复杂，施工成本高。并且，现有技术硅片清洗系统工作时，也会消耗大量能源。此外，潜水泵的寿命有限，维修维护频率较高，也增加了系统的不稳定性。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种硅片清洗系统，设计简单，降低了施工成本，减少了能源消耗，且降低了维修维护频率，减少了系统的不稳定性。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供了如下技术方案：

一种硅片清洗系统，其特征在于，包括硅片预清洗机，储水装置，硅片清洗机，第一输水管路，第二输水管路，其中，所述硅片预清洗机至少具有进水口和输水口，所述硅片清洗机至少具有出水口，所述储水装置至少具有进水口；所述硅片清洗机出水口的水平位置高于所述硅片预清洗机的进水口，硅片预清洗机进水口与硅片清洗机出水口通过第一输水管路相连，硅片预清洗机的输水口与储水装置的进水口通过第二输水管路相连。

优选的，所述第一输水管路的内径大于或等于100毫米。

优选的，所述第二输水管路的内径大于或等于200毫米。

优选的，所述储水装置顶部的水平高度高于所述副储水槽。

优选的，所述硅片预清洗机内设置有循环水槽、循环水泵、副储水槽，所述循环水槽的进水口是所述硅片预清洗机的进水口，所述循环水槽的出水口连接所述循环水泵的进水口，所述循环水泵的出水口连接所述副储水槽的进水口；所述副储水槽的出水口是所述硅片预清洗机的输水口，与储水装置的进水口通过第二输水管路相连。

优选的，所述硅片预清洗机还包括，过滤流向副储水槽和储水装置的水的过滤装置，该过滤装置的进水口与所述循环水泵的出水口相连，该过滤装置的出水口与所述副储水槽的进水口相连。

优选的，所述硅片清洗系统还包括水泵，其中，所述水泵至少具有出水口和进水口；所述硅片清洗机出水口连接所述水泵的进水口，所述水泵的出水口连接所述硅片预清洗机的进水口。

本实用新型提供的硅片清洗系统，充分利用了硅片预清洗机和硅片清洗机本身的特性，即：硅片清洗机排水口的水平位置高于硅片预清洗机的进水口，通过直接连接硅片预清洗机与硅片清洗机，达到对废水的二次利用的目的。同时，添加储水装置以最大限度的利用回收的废水。由于设计简单，施工成本低，维修维护频率低，且相比于现有技术的复杂系统，能源消耗也大大减少，降低了生产成本。

另外，硅片清洗机排出来的废水本身具有一定的温度，由于本实用新型输水管路简单直接，硅片清洗机排除的废水到达硅片预清洗机时，废水的热量散发较少，降低了预清洗机的加热水源的能量消耗，进一步降低了生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中硅片清洗系统的构造示意图；

图2为本实用新型实施例中的硅片清洗系统的构造示意图；

图3为本实用新型实施例中的硅片清洗系统的连接结构示意图；

图4为本实用新型另一实施例中的硅片清洗系统的连接结构示意图。

具体实施方式