[实用新型]真空系统

权利要求书

1.一种用于抽空冶金处理系统的室的真空系统，所述真空系统包括：用于从室中抽气的真空泵送布置；将真空泵送布置与所述室相连接的前级管道；位于前级管道中用于过滤沿着前级管道从所述室中抽出的气体的过滤器体积；和用于将所述真空泵送布置与所述室相连接且被布置用以根据监测到的除气室或真空系统的特性而选择性地绕过过滤器体积的旁通管道。

2.根据权利要求1所述的真空系统，其中所述旁通管道被布置用以根据所述室中的压力选择性地将所述真空泵送布置与所述室相连接。

3.根据权利要求1所述的真空系统，其中所述前级管道被布置用以在旁通管道将真空泵送布置与室相连接时将过滤器体积与所述室和所述真空泵送布置隔开。

4.根据权利要求3所述的真空系统，其中所述前级管道包括位于过滤器体积上游用于将过滤器体积与室隔开的第一隔离阀和位于过滤器体积下游用于将过滤器体积与真空泵送布置隔开的第二隔离阀。

5.根据权利要求1所述的真空系统，包括根据室中的压力选择性地沿着旁通管道输送气体的旁通阀。

6.根据权利要求1所述的真空系统，包括控制装置，所述控制装置被构造用以控制真空系统工作，从而使气体在第一范围压力下，沿着旁通管道，从室被输送至真空泵送布置，而在第二范围压力下，通过前级管道和过滤器体积，从真空室被输送至真空泵送布置，所述第一范围压力高于所述第二范围压力。

7.根据权利要求6所述的真空系统，其中所述第一范围压力在大气压和预定压力之间而所述第二范围压力在预定压力和目标压力之间。

8.根据权利要求7所述的真空系统，其中所述控制装置被构造用以在预定压力下将过滤器体积与室相连接，从而使得室和过滤器体积之间的压力差导致气体从室被输送至过滤器体积，且使得在低于预定压力时真空泵送布置沿着前级管道从过滤器体积和室中抽气。

9.根据权利要求6到8中任一权利要求所述的真空系统，其中在第一范围压力下，控制装置被构造用以控制旁通阀从而使气体沿着旁通管道从室被输送至真空泵送布置，并且控制隔离阀从而使过滤器体积与室和真空泵送布置隔开；而在第二范围压力下，控制装置被构造用以控制旁通阀和隔离阀，从而使气体沿着前级管道且通过过滤器体积被输送至真空泵送布置。