[实用新型]等离子化学气相沉积设备用挂钩有效
| 申请号： | 201320067922.5 | 申请日： | 2013-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN203144510U | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 任军利;马章彦;温奎;邢国政;杨雷;王步峰;陈斌 | 申请（专利权）人： | 润峰电力有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 刘乃东 |
| 地址： | 277600 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子 化学 沉积 备用 挂钩 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子化学气相沉积设备用挂钩，其特征是，包括左挂钩、右挂钩，所述左挂钩、右挂钩为薄板，左挂钩、右挂钩通过中间薄板连接，挂钩的顶部设有凸台，凸台下部设有卡槽，挂钩下部设有折弯钩，折弯钩的末端设有尖角。
2.如权利要求1所述的等离子化学气相沉积设备用挂钩，其特征是，所述左挂钩、右挂钩、中间薄板的厚度为0.5mm。
3.如权利要求1所述的等离子化学气相沉积设备用挂钩，其特征是，所述折弯钩高度为5mm，所述尖角高度为1mm。
4.如权利要求1所述的等离子化学气相沉积设备用挂钩，其特征是，所述左挂钩、右挂钩的宽度为1.25mm。
5.如权利要求1所述的等离子化学气相沉积设备用挂钩，其特征是，所述左挂钩、右挂钩的内端面与挂钩中心线的距离为3mm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
