[实用新型]等离子化学气相沉积设备用挂钩有效
申请号: | 201320067922.5 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN203144510U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 任军利;马章彦;温奎;邢国政;杨雷;王步峰;陈斌 | 申请(专利权)人: | 润峰电力有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 刘乃东 |
地址: | 277600 山东省济*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 化学 沉积 备用 挂钩 | ||
技术领域
本实用新型涉及材料表面处理设备技术领域,尤其涉及一种板式等离子化学气相沉积设备用挂钩。
背景技术
现有技术的板式等离子化学气相沉积(PECVD)镀膜挂钩由于结构存在的问题,存在的缺陷是,使用时硅片在装卸过程容易与石墨板产生摩擦甚至碰撞,产生不合格品甚至废品,电池片上挂钩印面积大、电池片不美观,容易生成背面氮化硅,背电场附着力差,缩短了电池片寿命。
发明内容
本实用新型的目的就是为了解决现有技术存在的上述不足;提供一种等离子化学气相沉积设备用挂钩;提高成品率,减少背面氮化硅的生成,增强背电场附着力,延长电池片寿命。
为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种等离子化学气相沉积设备用挂钩,包括左挂钩、右挂钩,所述左挂钩、右挂钩为薄板,左挂钩、右挂钩通过中间薄板连接,挂钩的顶部设有凸台,凸台下部设有卡槽,挂钩下部设有折弯钩,折弯钩的末端设有尖角。
所述左挂钩、右挂钩、中间薄板的厚度为0.5mm。
所述折弯钩高度为5mm,所述尖角高度为1mm。
所述左挂钩、右挂钩的宽度为1.25mm。
所述左挂钩、右挂钩的内端面与挂钩中心线的距离为3mm。
本实用新型的有益效果是:
1、使硅片在装卸的过程中减少与石墨板的摩擦,降低碎片发生的几率,提高成品率;.
2、减小电池片上挂钩印的面积,使电池片更美观;
3、减少背面氮化硅的生成,有利于增强背电场附着力,使电池片寿命更能保证;
附图说明
图1为本实用新型的主视图;
其中,1、右挂钩,2、左挂钩,3、凸台,4、卡槽,5、中间薄板,6、挂钩中心线,7、内端面,8、尖角,9、折弯钩。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型做进一步说明。
一种等离子化学气相沉积设备用挂钩,结合图1,包括左挂钩2、右挂钩1,所述左挂钩2、右挂钩1为薄板,左挂钩2、右挂钩1通过中间薄板5连接,挂钩的顶部设有凸台3,凸台下部设有卡槽4,挂钩下部设有折弯钩9,折弯钩9的末端设有尖角8。
所述左挂钩2、右挂钩1、中间薄板5的厚度为0.5mm。折弯钩9高度D为5mm,尖角8高度C为1mm。左挂钩2、右挂钩1的宽度B为1.25mm。左挂钩2、右挂钩1的内端面7与挂钩中心线6的距离A为3mm。
上述虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了描述,但并非对本实用新型保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本实用新型的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本实用新型的保护范围以内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的