[实用新型]一种线性蒸镀源喷嘴

说明书

技术领域

本实用新型属于真空蒸镀设备领域，具体涉及一种线性蒸镀源喷嘴。

背景技术

蒸镀源喷嘴用于真空蒸镀设备，用于蒸镀基板上喷射形成连续且均匀的薄膜。一般的蒸镀方法是：将蒸镀材料置于蒸镀容器中，再将该蒸镀容器置于某种加热器中，加热器通过对蒸镀容器进行加热，从而达到在被蒸镀的基板上形成薄膜层的目的。点状蒸镀源适于在小面积范围内形成较为均匀的薄膜。对于大面积蒸镀而言，点源无法满足薄膜层的整体均匀性。随着离中心蒸镀点距离的增加，边缘处的薄膜厚度下降明显。在许多功能器件的制备中，一般希望薄膜层厚度的不均匀性被控制在3%以内。

为制备大面积均匀薄膜，采用线性蒸镀源。线性蒸镀源适于形成连续大面积薄膜。然而，这种简单的等宽喷口设计，虽然与点状蒸镀源相比，已经扩大了薄膜均匀性宽度和面积，但仍然造成边缘薄膜的厚度与中心薄膜的厚度有很大的差别。

因此，考虑到蒸镀设备的制造成本和蒸镀材料的利用率，对蒸镀源的喷口形状进行优化设计是十分必要的。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题在于提供一种材料利用率高、镀膜均匀性好、蒸镀设备成本低廉的线性蒸镀源喷嘴。

本实用新型是通过以下技术方案来实现：

一种线性蒸镀源喷嘴，包括喷射罩和设置在喷射罩上的喷射板，所述喷射板的纵长方向上开设有喷射口，喷射口上设置有遮挡片。

所述喷射口为的形状为矩形。

所述喷射口的宽度为0.5～1.5cm。

所述遮挡片的长度占整个喷射口长度的1/6。

所述遮挡片距离喷射板左端8～15cm。

所述喷射罩为梯形体。

所述喷射板采用金属板或石英玻璃。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益的技术效果：

本实用新型的线性蒸镀源喷嘴，通过对喷射板上的喷射口宽度进行优化设置，并根据线源温度的差异，在喷射口上加入遮挡片，采用这种结构的线源喷嘴进行蒸镀，得到镀膜均匀度能够达到3%以内，也能避免其它蒸镀源在蒸镀过程中的材料污染问题，同时材料也得到有效利用，使用过后留在喷嘴腔体壁上的材料可以回收后重新使用，大大提高了材料利用率。本实用新型结构简单，设备制造成本低，适于工业化大规模生产应用。

附图说明

图1为本实用新型的线性蒸镀源喷嘴的正视图；

图2为本实用新型的线性蒸镀源喷射口的俯视图；

图3为现有技术的线性蒸镀源喷射后测量基片的膜厚均匀性结果图；

图4为本实用新型的线性蒸镀源喷射后测量基片的膜厚均匀性结果图。

其中：1为喷射罩；2为喷射口；3为遮挡片。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步详细描述：

参见图1，本实用新型的线性蒸镀源喷嘴，包括喷射罩1和设置在喷射罩1上的喷射板，所述喷射板的纵长方向上开设有喷射口2，所述喷射口2上设置有遮挡片3，遮挡片3将喷射口2分隔为两段，所述喷射罩1为一个梯形体喷射罩，使用时，该梯形体喷射罩置于线性蒸镀源之上。

参见图2，喷射口2上距离喷射板左端8～15cm设置有遮挡片3，喷射口2被遮挡片3分隔开，遮挡片3的长度占整个喷射口2长度的1/6，喷射口2用于岀射蒸镀材料，能够控制线性蒸镀源的岀射范围。

当本装置要蒸镀的基片基本尺寸为400×400mm,则喷射罩的下底尺寸为500mm，上顶为440mm。现有技术是将该喷射罩至于线源之上，没有设置遮挡片，对蒸镀后的基片测试膜厚均匀性，测试结果如图3所示：从图中可以看出，使用该装置测得膜厚中间厚，两边薄。采用本实用新型的结构，在喷射口上设置了遮挡片后对基片进行蒸镀，对蒸镀后的基片进行膜厚均匀性测试，结果如图4所示，从图中可以看出，采用该线性蒸镀喷嘴蒸镀得到的基片，膜厚均匀性已达到1.23%，能够达到业内要求的控制在3%以内的标准。

以上所述仅为本实用新型的一种实施方式，不是全部或唯一的实施方式，本领域普通技术人员通过阅读本实用新型说明书而对本实用新型技术方案采取的任何等效的变换，均为本实用新型的权利要求所涵盖。