[实用新型]发光二极管封装结构有效
申请号: | 201320120447.3 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN203192844U | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 谢新贤;黄田昊;吴上义;吴奕均 | 申请(专利权)人: | 联京光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/64;H01L33/60 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 封装 结构 | ||
1.一种发光二极管封装结构,其特征在于,包括:
一金属基板;
一绝缘层,位于该金属基板上方;
一线路层,位于该绝缘层上方;
一凹槽结构,该凹槽结构设置于该金属基板上;
一反射层,设置于该凹槽结构的一第一表面上;以及
一发光二极管,设置于该凹槽结构中,且该发光二极管与该线路层电性连接。
2.如权利要求1所述发光二极管封装结构,其特征在于,该凹槽结构为一光阻层。
3.如权利要求1所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该金属基板具有一平面,该凹槽结构设置于该平面上。
4.如权利要求1所述的发光二极管封装结构,其特征在于,于该金属基板上形成有一凹槽,该凹槽结构的下半部分是设置于该凹槽中。
5.如权利要求4所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该凹槽是藉由蚀刻该金属基板而形成。
6.如权利要求4所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该凹槽是藉由冲压该金属基板而形成。
7.如权利要求1所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该金属基板上形成有一凹槽,该凹槽结构设置于该凹槽的周围,且该反射层是设置于该凹槽结构的该第一表面与该凹槽的表面上。
8.如权利要求6所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该凹槽结构的该第一表面与该凹槽的表面相连接。
9.如权利要求1所述的发光二极管封装结构,其特征在于,更包括一透光封装胶体,覆盖于该发光二极管上。
10.如权利要求1所述的发光二极管封装结构,其特征在于,该金属基板为铝、铜或其合金。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联京光电股份有限公司,未经联京光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320120447.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种通信测试模块
- 下一篇:一种工业控制计算机的信号调理装置