[实用新型]一种用于制造有机发光显示器的掩模板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种掩模板，具体涉及一种用于有机发光显示器像素蒸镀用的掩模板。

背景技术

与现行LCD技术相较，利用有机发光二级管（OLED）技术所制成的显示器不仅具有可全彩化、反应时间快、高亮度(100~14,000cd/m2)、高流明效率(16~38lm/W)、170度以上的视角、无一般LCD残影、可制作成大尺寸与可挠曲性面板、能够在摄氏-30度~80度的范围内作业等优势，而且制程简单，整体厚度也能缩小至1mm以下，成本更仅有TFT-LCD的30~40%。因此，利用OLED技术所制成的显示器在深得社会欢迎。

在有机发光显示器的制造过程中，其中有机层的沉积会使用到掩模板，图1所示为采用掩模板蒸镀有机材料的示意图。掩模板10由于比较薄，在蒸镀前会通过相关工艺固定在掩模外框11上，蒸镀时，掩模板10借助掩模外框11固定在支撑台12上，蒸镀源13中的有机材料通过蒸发扩散至掩模板10下方，掩模板10上在一定的位置设置有开口100，有机材料通过开口100沉积在基板14上对应的位置处，形成像素点。

图2所示为掩模板的平面示意图，掩模板为整版结构（图中所示）或为多块拼接而成（图中未示出，所谓拼接即是掩模板由若干相对小的单元模板拼接成大尺寸的掩模板），掩模板10上设置有与有机发光显示器上像素点相对应的开口100，开口100一般在掩模板10上为阵列结构。掩模板10通过激光焊接或超声波焊接等工艺实现与掩模外框11的连接。图3所示为图1所示掩模板中A部分的平面放大示意图，开口100整体构成开口矩阵。

在技术要求上，像素点的大小都在微米级别，与掩模板的厚度尺寸在同一数量级上。所以当开口的截面（如图3所示a-a方向上一个开口的截面）形貌设置为图4所示的几何结构时，即开口的内壁与板面呈垂直关系，开口100下方（即靠近蒸镀源13的一面）的角1000会对有机材料进入开口100内部产生阻碍，从而影响有机材料在基板14上的沉积均匀性，从而使得有机发光显示器的品质不高。

为解决以上问题，申请号为2004100339303的专利公开了一种用于均匀形成有机发光装置的遮蔽掩模，其对存在以上问题的开口进行了如图5所示的设计，即将掩模板开口内壁设置为两头倒锥的结构，即开口存在倒锥结构1001及倒锥结构1002。通过分析了解到，如此设计是基于蚀刻工艺来制作掩模板，上部的倒锥结构1001是蚀刻工艺无法避免的一种缺陷，此倒锥结构1001在一定程度上构成死角，依旧影响有机材料在基板上的沉积均匀性。基于此，业界亟需一种更优异的掩模板来满足高品质有机发光显示器的蒸镀工艺。

实用新型内容

有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本实用新型提供了一种用于制造有机发光显示器的掩模板，其包括平面板及形成在平面板上的开口，其特征在于：所述开口按预设的位置排列，所述开口内壁在任意一个垂直于所述平面板上下平面的截面上形成平滑过渡曲线，所述平滑过渡曲线与所述平面板上下平面为非垂直结构且与所述平面板上下平面形成的图形为蒸镀源一侧开口大、另一侧开口小的结构，所述平滑过渡曲线的所有曲线的曲率中心位于所述开口一侧。。

所述开口的内壁所在方向全部与平面板所在的平面方向为非垂直结构。图6所示结构，开口的内壁所在方向A与平面板所在的平面方向B夹角α不等于90度。

根据本实用新型背景技术中对现有技术所述，现有技术中掩模板上的开口截面与掩模板上下两平面为垂直结构或两个倒锥结构的组合，具有垂直结构的掩模板会对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，而具有倒锥结构组合的掩模板不仅会对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，在一定程度上形成蒸镀死角，而且这种结构也是基于蚀刻工艺无法避免的一种缺陷，因此必须寻找一种新的结构来避免对蒸镀源挥发的材料在基板上的沉积均匀性造成影响，本实用新型采用的结构为采用激光工艺切割而成，所述开口内壁在任意一个垂直于所述平面板上下平面的截面上形成平滑过渡曲线，所述平滑过渡曲线与所述平面板上下平面为非垂直结构，所述平滑过渡曲线的所有曲线的曲率中心位于所述开口一侧。此种结构可以保证不具有蒸镀过程中可能存在的死角，可以完全避免上述几种结构对沉积均匀性造成的影响，对产品的质量提升有极大的帮助。

另外，根据本实用新型公开的用于制造有机发光显示器的掩模板还具有如下附加技术特征：

进一步地，所述开口在所述平面板上下平面上的形成的按图案形状为长条形或矩形或圆形。

进一步地，所述矩形为倒有圆角/倒角的矩形。