[实用新型]曝光机的玻璃基板支撑机构

权利要求书

1.一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周，用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆；其特征在于：所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；每个所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。

2.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述玻璃基板采用二分割的支撑方式时，所述吸附装置设置有一个。

3.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述玻璃基板采用三分割的支撑方式时，所述吸附装置设置有两个。

4.根据权利要求1-3任一项所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述吸附装置包括吸附主体、安装在所述吸附主体底部的真空吸盘、以及控制所述吸附主体在竖直方向或水平方向同步运动的驱动装置。

5.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，根据所述玻璃基板的尺寸，所述吸附装置包括至少一个吸附主体。

6.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述真空吸盘包括吸盘本体、与所述吸盘本体连接的真空泵、以及与所述真空泵连接的电磁阀；所述吸盘本体的底部设置有密封组件。

7.根据权利要求4所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述吸附装置还包括缓冲部；所述缓冲部连接在所述吸附主体与所述真空吸盘之间。

8.根据权利要求7所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，所述缓冲部为缓冲气缸、弹簧、以及软垫中的任意一种。

9.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，每个所述吸附装置可带动所述玻璃基板沿竖直方向运动。

10.根据权利要求1所述的曝光机的玻璃基板支撑机构，其特征在于，每个所述吸附装置可脱离所述玻璃基板沿水平方向运动。