[实用新型]曝光机的玻璃基板支撑机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，更具体地说，涉及一种曝光机的玻璃基板支撑机构。

背景技术

HVA光配向技术是指在给玻璃基板施加电压同时通过支撑平台给玻璃基板加热的情况下，再通过UV（紫外线）光照射使基板内高分子的单体反应，从而达到液晶配向的目的。

现有技术中，曝光机均采用由下向上的方式支撑玻璃基板。其中，玻璃基板的四周采用Lift Bar（支撑杆）支撑，为了防止玻璃基板中间位置产生弯曲变形，玻璃基板的中间位置采用Lift pin（支撑钉）支撑。如图1、图2所示为常用的曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式，其采用二分割支撑玻璃基板的方式。玻璃基板支撑机构包括基座1、安装在基座1顶部的支撑平台2、用于支撑玻璃基板10四周的若干个支撑杆3、以及支撑钉4。支撑钉4穿过基座1与支撑平台2支撑玻璃基板10。该玻璃基板支撑机构设置有一组支撑钉4，且一组支撑钉4支撑在玻璃基板10中的二等分线上。

如图3、图4所示为常用的曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式，其采用三分割支撑玻璃基板的方式。与第一种曝光机的玻璃基板支撑机构所不同的是，该玻璃基板支撑机构设置有两组支撑钉4，且两组支撑钉4分别支撑在玻璃基板10中的三等分线上。

上述玻璃基板支撑机构中的支撑平台2由于存在二分割或三分割结构，其整体性差导致温度不均匀，从而影响玻璃基板10的HVA光配向的效果，存在产生Pin Mura（支撑钉斑）的问题而影响产品的品质。再者，上述玻璃基板支撑机构的两种支撑方式在切换使用时，需要更换支撑平台2，该操作费时费力，影响产品的生产效率。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述曝光机的玻璃基板支撑机构影响玻璃基板HVA光配向效果且操作费时费力的缺陷，提供一种不会影响玻璃基板HVA光配向效果且操作简便的曝光机的玻璃基板支撑机构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

本实用新型构造了一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周，用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆；所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述玻璃基板采用二分割支撑方式时，所述吸附装置设置有一个。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述玻璃基板采用三分割支撑方式时，所述吸附装置设置有两个。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述吸附装置包括吸附主体、安装在每个所述吸附主体底部的真空吸盘、以及控制每个所述吸附主体在竖直方向或水平方向同步运动的驱动装置。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，根据所述玻璃基板的尺寸，所述吸附装置包括至少一个吸附主体。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述真空吸盘包括吸盘本体、与所述吸盘本体连接的真空泵、以及与所述真空泵连接的电磁阀；所述吸盘本体的底部设置有密封组件。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述吸附装置还包括缓冲部；所述缓冲部连接在所述吸附主体与所述真空吸盘之间。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，所述缓冲部为缓冲气缸、弹簧、以及软垫中的任意一种。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，每个所述吸附装置可带动所述玻璃基板沿竖直方向运动。

在本实用新型所述的曝光机的玻璃基板支撑机构中，每个所述吸附装置可脱离所述玻璃基板沿水平方向运动。

实施本实用新型的曝光机的玻璃基板支撑机构，具有以下有益效果：玻璃基板支撑机构采用支撑平台的结构，其整体性好、温度均匀，有利于玻璃基板的HVA光配向；再者，玻璃基板支撑机构采用吸附装置的结构在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时，其操作简便、工作效率高。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1是现有技术中曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式的平面示意图；

图2是图1所示的曝光机的玻璃基板支撑机构的第一种支撑方式沿A-A线的剖面示意图；

图3是现有技术中曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式的平面示意图；

图4是图3所示的曝光机的玻璃基板支撑机构的第二种支撑方式沿B-B线的剖面示意图；