[实用新型]双轨双控二极管一贯机有效
申请号: | 201320135142.X | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN203445102U | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 姚勇波 | 申请(专利权)人: | 上海兆华科技发展有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201802 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双轨 二极管 一贯 | ||
技术领域
本实用新型属于精密机械技术领域,具体涉及一种双轨双控二极管一贯机。
背景技术
目前,二极管的制造通常使用一贯机,现有技术中的一贯机分为两种类:一是单轨单控轴向一贯机,其存在着劳动成本高、利用率低的缺陷,另一种为双轨单控轴向一贯机,虽然较之单轨单控轴向一贯机,利用率有所提升,但是仍然不能有效满足企业的生产需要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种利用率高、调试方便、劳动成本低的双轨双控二极管一贯机。
一种双轨双控二极管一贯机,包括传动机构,所述传动机构上设有供料机构、测试机构、引直机构、印字机构、烘烤机构、编带机构、卷装机构及盒装机构;所述传动机构包括外轨道及内轨道,烘烤机构处的外轨道及内轨道水平并列排列,烘烤机构两侧的外轨道及内轨道呈相对称的高低设置,所述供料机构、测试机构、引直机构、印字机构、卷装机构及盒装机构分别对应设置在外轨道及内轨道上,所述烘烤机构两侧的外轨道及内轨道处均对称设有控制该处机构运行的控制箱。
所述烘烤机构两侧的外轨道及内轨道落差为300mm。
所述烘烤机构为UV灯箱。
本实用新型采用烘烤机构两侧具有高度落差的外轨道及内轨道设计,不仅满足了传动机构所需的必要空间,同时也方便的轨道的维修维护,提高了安全系数,另外两条轨道可单独控制,机构独立,每个功能都可以单独调试,由此,调试既变的容易,设备的效果也能发挥到最好。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例,对本发明做进一步说明。应理解,以下实施例仅用于说明本发明而非用于限制本发明的范围。
实施例1
参见图1,本实用新型提供的一种双轨双控二极管一贯机,包括传动机构1,所述传动机构1上设有供料机构2、测试机构3、引直机构4、印字机构5、烘烤机构6、编带机构7、卷装机构8及盒装机构9,
所述传动机构1包括外轨道1a及内轨道1b,所述供料机构2包括分别为外轨道1a及内轨道1b供料的外轨道入料排向2a及内轨道入料排向2b,所述测试机构3包括测试轮组Ⅰ3a、测试轮组Ⅱ3b,所述测试轮组Ⅰ、Ⅱ均由分别设置在外轨道1a及内轨道1b上的测试轮构成,所述引直机构4包括材料脚引直机构组Ⅰ4a、材料脚引直机构组Ⅱ4b及材料脚引直机构组Ⅲ4c,所述材料脚引直机构组Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ均由分别设置在外轨道1a及内轨道1b上的测试轮构成材料脚引直装置构成,所述印字机构5包括为外轨道1a及内轨道1b上的产品进行印字的外轨道印字机构5a及内轨道印字机构5b,
所述外轨道入料排向2a及内轨道入料排向2b、材料脚引直机构组Ⅰ4a、测试轮组Ⅰ3a、材料脚引直机构组Ⅱ4b位置的外轨道1a及内轨道1b均呈高低设置,落差为300mm,在烘烤机构6处合并,所述烘烤机构6可采用UV灯箱来实现烘烤,在烘烤机构6之后的外轨道1a及内轨道1b均回到高低设置,测试轮组Ⅱ3b、材料脚引直机构组Ⅲ4c均设置在该处的外轨道1a及内轨道1b上,所述编带机构7、卷装机构8及盒装机构9均设置在外轨道1a及内轨道1b的后端,完成产品的封装,
所述烘烤机构6两侧的外轨道1a及内轨道1b处均对称设有具有人机界面的控制箱10。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造