[实用新型]结晶化调制元件

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种结晶化调制元件。包括一种光调制光学系统，具有第一元件的入射光束，通过第二元件形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，构成光强度梯度分布，以及图像形成的光学系统，该系统提供的光调制的光学系统具有多晶半导体膜和非晶质半导体膜之间的基板。 

背景技术

目前，公知的涉及结晶的结晶装置，运用在与激光束照射到的膜制成的多晶半导体或非晶半导体中，与照射激光束具有预定的光强度分布进行相位调制。本实用新型是一种结晶化调制元件，运用光调制光学系统，具有第一元件的入射光束，通过第二元件形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，构成光强度梯度分布，这点创新设计在商业运营推广中是一种极大的竞争优势，可贵的是这项技术原理简单，并且其设方案合理实用，在思维上打破成规，从而带来了新的技术革命。 

发明内容

为了克服目前传统的调制元件在运作构筑上存在的缺陷，实用新型提供了一种结晶化调制元件，运用以光调制光学系统，具有第一元件的入射光束，通过第二元件形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，构成光强度梯度分布，通过此项技术创新的产品能更好的被运用及推广在商业及物联网应用技术领域。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：包括一种光调制光学系统，具有第一元件的入射光束，通过第二元件形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，构成光强度梯度分布，以及图像形成的光学系统，该系统提供的光调制的光学系统具有多晶半导体膜和非晶质半导体膜之间的基板，所述入射光束的光强度梯度分布和光强度的最低分配形成被施加到多晶半导体膜，通过图像形成光学系统的非晶质半导体膜，连接相位调制元件包括：图案形成最低逆峰形分布的入射光束的光强度，实现了这种结晶化调制元件的实际效用。借由该模式下，基板具有多种细长区域，具有不同的相位值，在彼此相邻的两个细长区域中具有基本相同的值，得到的光速图案形成一个V形的入射光束的光强度分布，所述相位调制元件具有第一区域，其最小尺寸比预定尺寸小，并具有第一相位值和具有第二相位值的第二区域，取决于位置的相位分布，并且图案具有线性区域，在对应的部分的底部具有远离的V字状的光强度分布构成的隔离区。这种结晶化调制元件更加适用于物联网技术上的控件应用，扩大了使用范围，并且也可以在更多领域运用此项技术创新从而带来更多的收益。 

本实用新型的有益效果是，在实际的运用过程中，此项实用新型提供了一种结晶化调制元件，通过以具有第一元件的入射光束，通过第二元件形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，构成光强度梯度分布，以及图像形成的光学系统，提升了这种结晶化调制元件的实际职能。 

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。 

图1是本实用新型的设计原理图。 

图中  1. 结晶化调制元件，2.多晶半导体膜，3.第一元件，4.第二元件，5.非晶质半导体膜。 

具体实施方式

在图1中，结晶化调制元件，以光调制光学系统，具有第一元件3的入射光束，通过第二元件4形成所期望的具有相同逆峰形的光强度的最低分配，光调制的光学系统具有多晶半导体膜2和非晶质半导体膜5之间的基板，实现结晶化调制元件1的有效操作。