[实用新型]一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统有效
申请号: | 201320162035.6 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN203197750U | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 易小顺;方建雄;李呼相;吴鲁;隆仁伟 | 申请(专利权)人: | 苏州海铂晶体有限公司 |
主分类号: | B24B57/00 | 分类号: | B24B57/00 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 李凤娇 |
地址: | 215437 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 蓝宝石 领域 cmp 抛光 外部 循环系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种蓝宝石晶体生产工具,尤其是一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统。
背景技术
化学机械抛光(CMP)包括磨料的机械抛光与抛光液的化学作用。现有的生产系统中,蓝宝石晶片在CMP加工工程中容易产生划伤,影响划伤的因素包括:结晶物划伤、钻石颗粒划伤及上下盘转速设置不当。
当CMP设备长时间不运行,由于抛光液长时间处于不流动状态,抛光液中悬浮的磨料颗粒容易聚集,产生结晶物,这不但缩短了抛光液的使用寿命,而且容易在蓝宝石晶片表面产生严重划痕。
因此,如何减少晶片划伤率与延长抛光液使用寿命成为了一个亟需解决的难题。
发明内容
发明目的:针对现有技术的不足,申请人经过长期的实践探索,设计了一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统。
技术方案:为了实现上述发明目的,本实用新型所采用的技术方案为:一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统,包括抛光液管道,所述抛光液管道与抛光液桶连通,在所述抛光液管道上依次设置推进泵A、粗过滤装置、细过滤装置及推进泵B。本装置的关键在于将所述推进泵B与三通阀连接,三通阀的端口A与CMP设备连接,三通阀的端口B与抛光液桶连通,三通阀的端口A上设有第一阀门,三通阀的端口B上设有第二阀门。
所述粗过滤装置的滤芯孔径为10um-30um,所述细过滤装置的滤芯孔径为1um-10um,滤芯材质为滤芯材质为PP/PES/PTFE/尼龙/玻璃纤维的复合材料。
所述抛光液管道采用PU管道或者PVC管道,综合实际运用和材料成本,申请人选择使用PVC管道,管道内径为15mm-40mm,管壁厚度为4mm-8mm。
当CMP设备不运行,可打开第二阀门,将三通阀的端口B利用管道与抛光液桶连通,推进泵A和推进泵B保持工作,实现抛光液的CMP设备外循环。
有益效果:本实用新型与现有技术相比,其有益效果是:
1、本实用新型利用将三通阀将抛光液管道与抛光液桶实现循环连通,实现了抛光液的外部循环,避免了抛光液因CMP设备不运行而结晶的问题;
2、本装置能够有效减少抛光液结晶颗粒在蓝宝石晶片表面划伤的现象,不但延长了抛光液的使用寿命,还提高了蓝宝石晶片的生产质量;
3、本实用新型降低了抛光液结晶几率,减少了过滤装置的滤芯被堵塞的次数,节约了生产成本。
附图说明
图1为一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统的结构示意图。
具体实施方式
下面通过一个最佳实施例,对本技术方案进行详细说明,但是本实用新型的保护范围不局限于所述实施例。
如图1所示,一种用于蓝宝石领域的CMP抛光液外部循环系统,包括抛光液管道1,所述抛光液管道1与抛光液桶连通,所述抛光液管道1上依次设置推进泵A2、粗过滤装置3、细过滤装置4及推进泵B5,所述推进泵B5与三通阀6连接,三通阀6的端口A7与CMP设备连接,三通阀6的端口B9与抛光液桶连通,三通阀6的端口A7上设有第一阀门8,三通阀6的端口B9上设有第二阀门10。
所述粗过滤装置3的滤芯孔径为10um-30um,所述细过滤装置4的滤芯孔径为1um-10um,滤芯材质选择用PP/PES/PTFE/尼龙/玻璃纤维的复合材料。所述抛光液管道1采用PVC管道,内径为15mm-40mm,管壁厚度为4mm-8mm。
实际应用时,当CMP设备运行时,关闭第二阀门10,同时打开第一阀门8,推进泵A2和推进泵B5保持运行,抛光液通过管道进入CMP设备进行工作;当CMP设备不运行时,关闭第一阀门8,打开第二阀门10,然后推进泵A2和推进泵B5保持运行,抛光液实现外部循环,不会发生停滞结晶。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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