[实用新型]介质谐振腔耦合连接结构有效
申请号: | 201320162504.4 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN203150678U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 梁傲平 | 申请(专利权)人: | 武汉凡谷电子技术股份有限公司 |
主分类号: | H01P1/04 | 分类号: | H01P1/04 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 黄行军 |
地址: | 430205 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 谐振腔 耦合 连接 结构 | ||
1.一种介质谐振腔耦合连接结构,它包括至少两个介质谐振腔(1),所述的介质谐振腔(1)通过耦合块(2)连接,其特征在于:在所述的耦合块(2)和介质谐振腔(1)之间设有阻焊膜(3),所述阻焊膜(3)的面积小于耦合块(2)和介质谐振腔(1)的连接面的面积。
2.根据权利要求1所述的一种介质谐振腔耦合连接结构,其特征在于:在所述的介质谐振腔(1)的连接面上开设有第一耦合窗(1.1),在所述的耦合块(2)上开设有与第一耦合窗(1.1)对应的第二耦合窗(2.1),在所述阻焊膜(3)上开设有与第一耦合窗(1.1)和第二耦合窗(2.1)对应的第三耦合窗(3.1),所述第三耦合窗(3.1)的面积大于第一耦合窗(1.1)和第二耦合窗(2.1)的面积。
3.根据权利要求2所述的一种介质谐振腔耦合连接结构,其特征在于:所述第二耦合窗(2.1)为开设在耦合块(2)上与第一耦合窗(1.1)对应的通孔。
4.根据权利要求2所述的一种介质谐振腔耦合连接结构,其特征在于:所述的第二耦合窗(2.1)设有两个,分别开设在耦合块(2)的两个连接面上。
5.根据权利要求1或2所述的一种介质谐振腔耦合连接结构,其特征在于:所述阻焊膜(3)粘贴在介质谐振腔(1)的连接面上,阻焊膜(3)的材料为高温胶带,阻焊膜(3)的厚度小于0.8um。
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