[实用新型]高压电路中低压器件的高压阱版图结构有效

专利信息
申请号: 201320168792.4 申请日: 2013-04-07
公开(公告)号: CN203150554U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 闫琳静;刘菁;杨森林;单闯 申请(专利权)人: 北京经纬恒润科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 100101 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 高压 电路 低压 器件 版图 结构
【权利要求书】:

1.一种高压电路中低压器件的高压阱版图结构,包括P型衬底和N阱,其特征在于,所述N阱的侧面和P型衬底之间设有满足高压规则的阻挡层;所述低压器件设置于所述N阱上;所述N阱的阱电位为高压。

2.根据权利要求1所述的高压阱版图结构,其特征在于,所述低压器件为低压P型场效应管;所述低压P型场效应管的源极和漏极分别为设置在所述N阱上互不接触的的P型掺杂;所述低压P型场效应管的栅极为多晶硅,设置于源极和漏极之间的沟道上。

3.根据权利要求2所述的高压阱版图结构,其特征在于,所述低压P型场效应管的个数为一个或多个,且每个低压P型场效应管的衬底电位相同。

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