[实用新型]一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201320181124.5 | 申请日： | 2013-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN203222616U | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 韩裕鲲 | 申请（专利权）人： | 昆山艾诺美航天材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 曲度 弧形 阴极 磁控溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：包括弧形基架、充气管道、永久磁体、辉光放电电极，所述弧形基架的形状是圆弧形，所述弧形基架圆弧面用许多片所述永久磁铁覆盖，所述弧形基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定所述辉光放电电极。
2.根据权利要求1所述的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：所述弧形基架为不锈钢基架。
3.根据权利要求2所述的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：所述充气管沿所述弧形基架左侧端面固定在所述弧形基架上。
4.根据权利要求2所述的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：所述永久磁体是以一片片长方形强力磁体紧密排列，吸附在所述弧形基架的圆弧面。
5.根据权利要求2所述的高曲度弧形阴极磁控溅射靶，其特征在于：所述辉光放电电极沿所述弧形基架右侧端面固定在所述弧形基架上。
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