[实用新型]一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶，特别涉及的是用于航空领域的一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶。

背景技术

目前真空镀膜所采用的靶材均是平板靶材，对于一般的平面镀膜能够保证均匀性。但是要对复合曲面的飞机座舱罩进行大面积镀膜，平面靶材相对于曲面各点的距离差距较大，无法确保镀膜的均匀性，进而影响其导电率和透光率。因此需要设计一种形状符合飞机座舱罩曲面外形的靶材，以此来实现快速、均匀的大面积镀膜。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶，实现对复合曲面的飞机座舱罩进行快速、均匀的大面积镀膜。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种高曲度弧形阴极磁控溅射靶，包括弧形基架、充气管、永久磁体、辉光放电电极。所述弧形基架是溅射靶的主要部分，它的形状是本实用新型设计的重点。所述弧形基架的圆弧面用许多片所述永久磁体覆盖。所述弧形基架左侧端面用螺栓固定两条所述充气管，右侧端面用螺栓固定所述辉光放电电极。

优选的，所述弧形基架为不锈钢基架。

优选的，所述充气管沿所述弧形基架左侧端面固定在所述弧形基架上，用来在真空室中充入工作气体和保护气体。

优选的，所述永久磁体是以一片片长方形强力磁体紧密排列，吸附在所述弧形基架的圆弧面，用来提供均匀的强磁场。

优选的，所述辉光放电电极沿所述弧形基架右侧端面固定在所述弧形基架上，用来连接外电源，产生负高压。

上述技术方案具有如下有益效果：该高曲度弧形磁控溅射靶在镀膜时固定在三维移动靶材支架上，并由其承载着按设定的轨迹运动。采用高曲度磁控溅射阴极靶，能够使大面积的复合曲面的飞机座舱罩得到均匀、快速的镀膜。

上述说明是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的具体实施方式并配合附图对本专利进行详细说明。

附图说明

图1是本实用新型高曲度弧形阴极磁控溅射靶示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型高曲度弧形阴极磁控溅射靶，包括弧形基架1、充气管2、永久磁体3、辉光放电电极4。弧形基架1是溅射靶的主要部分，它的形状是本实用新型设计的重点，其材质为不锈钢。弧形基架1的圆弧面用许多片永久磁体3覆盖。其中左侧端面用螺栓固定两条充气管2，右侧端面用螺栓固定辉光放电电极4。

充气管2沿弧形基架1左侧端面固定在弧形基架1上，用来在真空室中充入工作气体和保护气体。

永久磁体3是以一片片长方形强力磁体紧密排列，吸附在弧形基架1的圆弧面，用来提供均匀的强磁场。

所述辉光放电电极4沿弧形基架1右侧端面固定在弧形基架1上，用来连接外电源，产生负高压。

上述实例可在不脱离本实用新型的范围下加以若干变化，故以上的说明及附图中所示的结构应视为示例性，而非用以限制本实用新型的申请专利范围。凡根据本实用新型做出的等效变化或修饰，都涵盖在本实用新型的保护范围内。