[实用新型]一种具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机有效
| 申请号： | 201320182214.6 | 申请日： | 2013-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN203385993U | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 蔡良斌;丁天祥 | 申请（专利权）人： | 常熟晶悦半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/02 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 215513 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 自动 对准 系统 曝光 光学 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，包括用于被曝光的玻璃基板，其特征在于，
所述玻璃基板具有对准标记；
一用于检测所述玻璃基板对准标记的定位工作台，所述玻璃基板的对准标记与所述定位工作台的固定标记对准；
所述定位工作台具有电荷耦合元件图像传感器以及与所述电荷耦合元件图像传感器相互信号连接的处理器，所述处理器控制所述定位工作台进行XYθ方向运动调节；
所述光学曝光机包括位于所述玻璃基板上方的若干曝光头，所述曝光头正对所述玻璃基板；
所述光学曝光机还包括用于传输所述玻璃基板至所述定位工作台的上料机构以及从所述定位工作台移除的下料机构。
2.根据权利要求1所述具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，其特征在于，所述曝光头的数量为四个。
3.根据权利要求1所述具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，其特征在于，所述定位工作台包括固定座和活动座，所述处理器控制所述活动座相对所述固定座实现XYθ方向的运动调节。
4.根据权利要求3所述具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，其特征在于，所述玻璃基板放置在所述活动座上。
5.根据权利要求1所述具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，其特征在于，所述上料机构和所述下料机构均为传动带，所述上料机构和所述下料机构靠近所述活动座。
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