[实用新型]连续式真空蒸发镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201320288748.7 申请日: 2013-05-23
公开(公告)号: CN203333745U 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 刘潺 申请(专利权)人: 深圳市生波尔机电设备有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/56
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 518000 广东省深圳市坪山新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 连续 真空 蒸发 镀膜 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及镀膜技术领域,尤其是涉及一种连续式真空蒸发镀膜装置。

背景技术

真空蒸发镀膜(简称蒸镀)技术是PVD(物理气相沉积)技术中发展最早,应用领域很广的镀膜技术。其工作原理:将膜材置于真空镀膜设备的蒸发源(用来加热膜材使之气化蒸发的装置)中,在高真空条件下通过蒸发源加热膜材使之蒸发形成蒸气,蒸气到达被镀的基材表面后由于基材温度较低,蒸气便凝结在基材表面形成薄膜。

目前广泛应用的是箱式蒸发镀膜机,这种箱式蒸发镀膜机主要采用电阻加热蒸发源和电子束加热蒸发源(由电子枪和坩埚组成)两种蒸发源。这种镀膜机主要包括:真空室、抽气系统、蒸发源、膜厚测量系统、离子源、加热器等。

现有的箱式蒸发镀膜机对基材镀膜加工的基本流程为:a、装载(将待蒸镀的基材装载至工件架上);b、上架(将装好基材的工件架安装到真空室内);c、抽气(关闭真空室大门,通过真空泵对真空室抽气直至真空压力值到设定值,如优于10-2Pa);d、加热(对基材加热直至基材温度到设定值,另外根据镀膜要求也可不加热);e、离子清洗(旋转工件架,通过离子源对基材进行清洗,另外根据镀膜要求也可不清洗);f、镀膜(开启蒸发源实现镀膜,直至膜厚达到设定值);g、停机(停止加热、停止旋转工件架、真空室放大气);h、下架(打开真空室门,将镀膜后的基材工件架取出);然后返回第a步执行下一个生产流程。

上述这种箱式蒸发镀膜机对基材进行镀膜过程中存在如下问题:

1、由于其按开机-停机-开机的模式循环工作,这种循环过程中不同周期所涉及镀膜工艺条件如真空压力、加热温度、抽气速度、室体放气、室体污染很难每一个工艺条件完全一致,而只有一个工艺条件少有变动,都将导致膜层质量的变化,因此这种镀膜机生产出来的膜层质量一致性难以得到保证。

2、由于上述这种镀膜机一般采用油扩散泵+罗茨泵+油封式旋片泵的抽气系统,油蒸气对真空室体会有一定的污染,进而会污染膜层品质;另外实际过程中由于想获得高的真空度环境,抽气时间会很长,综合蒸镀要求和生产效率的考虑,一般控制真空度在10-2Pa左右,即此时真空室中还残留有较多的H2O,CO2,O2,N2,有机蒸气等气体,在镀膜过程中,这些气体会和蒸发粒子一起被吸附或结合,在薄膜中造成污染,进而影响膜层品质。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种连续式真空蒸发镀膜装置,提高镀膜效率,保证产品膜层的一致性,防止膜层被杂质气体污染,获得品质更优的膜层。

本实用新型提出一种连续式真空蒸发镀膜装置,包括:镀膜室、工件架和膜料架;

所述镀膜室一端连通第一过渡室,另一端连通第二过渡室;

所述第一过渡室、镀膜室、第二过渡室内分别设有传输所述工件架的第一轨道和传输所述膜料架的第二轨道;

所述第一过渡室两端和第二过渡室两端分别设有可开关的用于隔离气体的插板阀;

所述第一过渡室、镀膜室、第二过渡室分别配置有独立的抽气系统。

优选地,所述第一过渡室的第一轨道与镀膜室的第一轨道由置纳插板阀的空隙隔离,二者延长部分相互重叠;镀膜室的第一轨道和第二过渡室的第一轨道由置纳插板阀的空隙隔离,二者延长部分相互重叠;

所述第一过渡室的第二轨道与镀膜室的第二轨道由置纳插板阀的空隙隔离,二者延长部分相互重叠;镀膜室的第二轨道和第二过渡室的第二轨道由置纳插板阀的空隙隔离,二者延长部分相互重叠。

优选地,所述第一过渡室包括:上第一过渡室,与上第一过渡室连通的下第一过渡室;上第一过渡室内设有所述第一轨道;所述下第一过渡室内设有所述第二轨道;

所述第二过渡室包括:上第二过渡室,与上第二过渡室连通的下第二过渡室;上第二过渡室内设有所述第一轨道;所述下第二过渡室内设有所述第二轨道。

优选地,所述插板阀包括:上插板阀和下插板阀;

所述上第一过渡室两端和上第二过渡室两端设置有上插板阀;

所述下第一过渡室两端和下第二过渡室两端设置有下插板阀。

优选地,所述第一轨道包括:第一滑轮,该第一滑轮的一侧设置有第一齿轮;

所述工件架包括:工件架本体,该工件架本体的顶部设置有与所述第一滑轮适配的第一滑块,该第一滑块一侧设有与所述第一齿轮啮合的第一齿条。

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