[实用新型]分区多靶磁控溅射设备

权利要求书

1.本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室，在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室，每个中间靶腔室的底部为圆筒形状，在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极，在中间靶腔室中设有一个导辊，该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上，该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘，在导辊和壳体之间可以施加电场偏压，在收放卷之间的薄膜由电机带动，通过导辊穿过彼此贯通的腔室，靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。

2.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：一个真空腔体是由分别安装在两端的放卷室和收卷室，以及多个分区并贯通的靶腔室构成，该真空腔体设有与抽气系统连接的接口，以及连接电源的接口。

3.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：每个中间靶腔室的底部为圆筒形状，在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极，该靶电极与真空腔体通过绝缘材料绝缘，它可以与射频、也可以与高频以及直流电源连接。

4.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：在中间靶腔室中设有一个导辊，该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上，该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘，在导辊与真空壳体之间可以加入偏压，也可以通过导线连为一体。

5.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：在收放卷之间的薄膜由电机带动，通过导辊穿过彼此贯通的腔室，在中间两个腔室，传动辊上加有纠偏装置。

6.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：该真空腔体设有与抽气系统连接的接口，该真空系统的真空泵组分别安装在设备的两端。