[实用新型]一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒有效
申请号: | 201320308476.2 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN203288569U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 彭志农;潘宏菽;付兴昌 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/677 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 陆林生 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 存放 薄晶圆片 周转 存储 | ||
1.一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于包括盒体(1)和盒盖(2),所述盒体(1)上设有舱室平台,舱室平台为一个平滑的圆形平台,平台的直径大于薄晶圆片的直径,沿舱室平台(3)外周的部分弧将盒体分为高低两部分,在盒体低的部分设有取放口(4),取放口(4)为一条设置在舱室平台外侧的弧形凹槽,所述凹槽紧挨着舱室平台(3),取放口(4)的高度大于舱室平台(3)的高度,所述盒盖(2)也分为高低两部分,盒盖(2)低的部分与盒体(1)高的部分相适配,盒盖(2)高的部分与盒体(1)低的部分相适配。
2.根据权利要求1所述的一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于所述盒体沿舱室平台(3)的一条直径分为高低两部分,在盒体(1)高的部分,舱室平台(3)的周围为陡直的边沿,边沿的高度大于薄晶圆片的翘曲高度,在盒体(1)低的部分,舱室平台(3)的周围为取放口(4),取放口(4)为半圆形凹槽,取放口(4)的高度大于舱室平台的高度,高度差为1mm-5mm,半圆形凹槽在远离舱室平台的一侧设有斜面(5),斜面(5)的上沿与盒体(1)低部分的上表面平齐,斜面(5)的下沿高于舱室平台(3)。
3.根据权利要求2所述的一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于在盒盖(2)高的部分与取放口(4)相对应的位置上设有与取放口(4)相适配的阻挡棱(6)。
4.根据权利要求3所述的一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于所述盒体(1)的上表面设有第一定位棱(7),所述第一定位棱(7)位于所述盒体(1)高的部分上,所述盒体(1)的下表面设有定位槽(8);所述盒盖(2)的上表面设有第二定位棱(9),第一定位棱(7)与第二定位棱(9)组合成的形状与定位槽(8)相适配。
5.根据权利要求4所述的一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于盒体(1)低的部分上设有第一锁孔(10),在盒盖(2)上与第一锁孔相对应的位置设有第二锁孔(11)。
6.根据权利要求2所述的一种用于存放薄晶圆片的周转存储盒,其特征在于所述斜面(5)为45°斜面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十三研究所,未经中国电子科技集团公司第十三研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320308476.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:集群数据库并行查询的通讯方法和通讯装置
- 下一篇:继电器的底板
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造