[实用新型]用于光刻区地面的吸污垫有效

专利信息
申请号: 201320311530.9 申请日: 2013-05-31
公开(公告)号: CN203304267U 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 蔡永伟;金维;施冠元 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B08B17/02 分类号: B08B17/02
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;林彦之
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 地面 吸污垫
【权利要求书】:

1.一种用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:包括一层防静电膜及其上的一层防化学吸污棉,该防静电膜和防化学吸污棉相互贴合固定。

2.根据权利要求1所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防化学吸污棉由四片两两相接的吸污棉组合而成。

3.根据权利要求2所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该相邻两片吸污棉之间间隔0-30mm。

4.根据权利要求3所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该相邻两片吸污棉之间间隔1-10mm。

5.根据权利要求4所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防静电膜为方形,该防化学吸污棉为由四片方形吸污棉组成的方形,且防化学吸污棉边缘与防静电膜边缘的距离为0-30mm。

6.根据权利要求5所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防化学吸污棉与防静电膜的边缘相互重叠。

7.根据权利要求1至6任一项所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防静电膜与防化学吸污棉相互粘合。

8.根据权利要求7所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防静电膜与防化学吸污棉通过塑料泡沫胶相互粘合。

9.根据权利要求8所述的用于光刻区地面的吸污垫,其特征在于:该防化学吸污棉的中间部分通过塑料泡沫胶与防静电膜相互粘合,防化学吸污棉的边缘通过夹子与防静电膜相互固定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320311530.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top